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雙面研磨機是一款操作簡單，兼容性強的高效率研磨加工設備。主要用于晶片的雙面機械研磨，通過搭配不同材質的研磨盤和不同粒徑及材質的研磨液，可以實現(xiàn)不同材料，不同尺寸，不同厚度的晶片研磨。
更新時間:2025-03-05
tsp-400/450/380晶片研磨機系列設備是落地式的高精度單面拋光設備，可搭配銅盤、錫盤、玻璃盤、不銹鋼盤等，配合不同類型的拋光液，適用于各種半導體材料的高精密拋光。
更新時間:2025-03-05
單面拋光機是一款操作簡單，兼容性強，搭配不同盤配合相應的液可實現(xiàn)多種半導體材料高精度拋光設備，拋光盤可定制，根據量產要求多種規(guī)格可選。
更新時間:2025-03-05
tap-400/600/450a/500精密研磨拋光機系列設備是兩軸高精密單面拋光設備，拋光頭可自轉、可擺動，可實現(xiàn)高壓力、高轉速拋光，可以單片拋光，也可以多片拋光，滿足各種材料的高精密拋光要求。
更新時間:2025-03-05
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