干法清洗設(shè)備產(chǎn)品及廠家
plasmapen™ 是pva tepla的大氣式等離子清潔系統(tǒng)，可滿足各種表面處理要求，如表面清潔及表面活化。
更新時間:2025-08-13
80 plus 條形等離子清潔系統(tǒng)為半導體加工而開發(fā)，可支持手動及自動操作，兩種操作方式均簡單易用。該系統(tǒng)可以配備或不配備裝卸站；此外，每個裝卸站都可支持不同的配置。即便沒有裝卸站，也可將其集成到生產(chǎn)線中。
更新時間:2025-08-13
suss microtecs asx 系列為加工掩模和 250 nm 至 90 nm 技術(shù)節(jié)點提供了先進的烘烤、顯影和清潔方法。其可靠性、穩(wěn)定性和高性能使平臺能夠滿足無損加工掩模的要求，用于 248 nm 和 193 nm 光刻工藝。
更新時間:2025-08-13
這款紫外臭氧清洗機，集成嵌入式控制系統(tǒng)，人性化設(shè)計，便捷高效，質(zhì)量有保障，業(yè)服務，是科研與實驗的理想伙伴。
更新時間:2025-08-13
lebo science的pt500真空等離子清洗機，作為plasma treatment equipment，具備以下顯著特點：設(shè)備小巧，操作便捷：采用一鍵式操控設(shè)計，便于在科研院所等實驗環(huán)
更新時間:2025-08-13
批量晶圓處理等離子系統(tǒng)采用模塊化設(shè)計，其模塊化控制系統(tǒng)使用新一代處理器，基于 linux 平臺作為操作系統(tǒng)，以及圖形用戶界面 (gui)。因此，可支持手動和全自動控制過程，并且通過 mfc 控制過程氣體。在此過程中，所有參數(shù)都被寫入程序并存儲在數(shù)據(jù)庫中。與此同時，當?shù)膲毫χ、氣體流量值、輸出值等都顯示在顯示屏上，如果當值偏離設(shè)定值，則會觸發(fā)相應的警報。
更新時間:2025-08-13
cif 實驗室型等離子清洗機設(shè)備在材料學，光學，電子學，醫(yī)藥學，環(huán)境學、生物學等科研域，主要用于材料表面進行清洗、活化、改性等目的。cif推出的新一代等離子體清洗設(shè)備，合理的結(jié)構(gòu)設(shè)計，優(yōu)化的腔體尺寸，使得處理樣品更大，適用范圍更廣，性能更穩(wěn)定，操作更簡便，性價比更高，使用成本更低，實用性更強，更容易維護。
更新時間:2025-08-13
cif推出vgb-p系列手套箱用等離子清洗設(shè)備，優(yōu)化的腔體結(jié)構(gòu)及合理的結(jié)構(gòu)設(shè)計更適合手套箱內(nèi)使用。安裝簡單方便，性能穩(wěn)定，實用性強，容易維護。
更新時間:2025-08-13
cif透射電鏡（tem）樣品桿清洗機采用遠程離子清洗源設(shè)計，清洗快速高效，低轟擊損傷，同時可實現(xiàn)常規(guī)等離子清洗。主要用于tem透射電鏡樣品桿的等離子體清洗和真空檢漏。
更新時間:2025-08-13
cif 掃描電鏡（sem）等離子清洗機采用遠程等離子清洗源設(shè)計，清洗快速、高效、低轟擊損傷，主要用于sem或fib等電鏡腔體內(nèi)碳氫化合物的清洗。
更新時間:2025-08-13
uv-300hc是一款高性能的盒式裝載uv臭氧清洗機，用于生產(chǎn)。這個行業(yè)先的系統(tǒng)有2個裝載盒，可以達到200-300nm/min的高灰化率。該系統(tǒng)利用紫外線照射、高濃度臭氧和可控階段加熱的組合，溫和而有效地去除硅、玻璃、化合物半導體（gan、sic、gaas和inp）、藍寶石、陶瓷等各種基材上的有機物。
更新時間:2025-08-13
uv-300h是一款高性能的緊湊型紫外線臭氧清洗機。通過滑動抽屜將基材裝入系統(tǒng)中。紫外線照射、高濃度臭氧和階段性加熱的組合，可溫和而有效地去除硅、玻璃、化合物半導體（gan、sic、gaas、inp）、藍寶石、陶瓷等各種基材上的有機物。
更新時間:2025-08-13
uv-1是一款緊湊型臺式紫外線臭氧清洗機。該系統(tǒng)將紫外線照射、臭氧和平臺加熱結(jié)合在一起，溫和而有效地去除硅、玻璃、化合物半導體（gan、gaas、inp、sic）、藍寶石、陶瓷等各種基材上的有機物。
更新時間:2025-08-13
pc-300是一種平行板式等離子清洗機，用于清洗樣品表面的有機和無機污染。該工藝室允許用戶安裝多個電架，架式電配置的靈活性支持從研究到小批量生產(chǎn)的各種產(chǎn)品的批量處理。
更新時間:2025-08-13
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