清洗機產品及廠家

SWC-5000 (AD) 全自動兆聲濕法去膠系統(tǒng)
最新技術的兆聲和清洗技術的發(fā)展,對mems和半導體等領域的晶圓和掩模版清洗提供了最新的水平,可以幫助用戶獲得最干凈的晶圓片和掩模版。
更新時間:2025-08-21
SWC-3000 (W) 兆聲晶圓清洗機
最新技術的兆聲和清洗技術的發(fā)展,對mems和半導體等領域的晶圓和掩模版清洗提供了最新的水平,可以幫助用戶獲得最干凈的晶圓片和掩模版。
更新時間:2025-08-21
SWC-4000 (W) 兆聲晶圓清洗機
最新技術的兆聲和清洗技術的發(fā)展,對mems和半導體等領域的晶圓和掩模版清洗提供了最新的水平,可以幫助用戶獲得最干凈的晶圓片和掩模版。
更新時間:2025-08-21

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