清洗機(jī)產(chǎn)品及廠(chǎng)家
堅(jiān)固耐用，全部不銹鋼結(jié)構(gòu)。uvo清洗設(shè)備的核心是低壓石英汞燈，產(chǎn)生254和185nm范圍的紫外線(xiàn)。臭氧和 等離子氧氣產(chǎn)生，有機(jī)污染物分子在吸收254nm波長(zhǎng)紫外線(xiàn)后被激發(fā)或分解；激發(fā)的 有機(jī)污染物可以和等離子氧原子反應(yīng)形成氣體，比如co₂,等？梢匀コつw油脂，有機(jī)硅油和油脂，助焊劑，殘留的光刻膠，膠水溶劑，碳等。
更新時(shí)間:2025-08-21
完美全面的清洗解決方案。evactron combiclean 清洗系統(tǒng)為透射樣品，樣品桿以及透射極靴等其他分析設(shè)備提供了桌面式清洗平臺(tái)，幫助客戶(hù)清洗樣品以及電鏡部件，去除其存在的碳污染問(wèn)題。同時(shí)也提供了外置等離子發(fā)生器用于電鏡腔體清洗方案。系統(tǒng)操作簡(jiǎn)單，檢測(cè)器可以智能控制多個(gè)等離子發(fā)生器單元，控制器自由切換可以通過(guò)不同發(fā)生器的工作模式。系統(tǒng)支持旋葉機(jī)械泵，從而防止油污染。提供干燥氮?dú)獗Ｗo(hù)環(huán)境，保證經(jīng)等離子清洗過(guò)后的樣品可以長(zhǎng)期保存，此時(shí)不影響其他等離子發(fā)生器的使用。
更新時(shí)間:2025-08-21
真空等離子清洗機(jī)(plasma cleaner)，氣體通過(guò)激勵(lì)電源離化成等離子態(tài)，等離子體作用于產(chǎn)品表面，清洗產(chǎn)品表面污染物，提高表面活性，增強(qiáng)附著性能。等離子清洗是一種新型的、環(huán)保、高效、穩(wěn)定的表面處理方式。
更新時(shí)間:2025-08-21
美國(guó)jelight紫外光加臭氧清洗機(jī)，是去除有機(jī)污染物(organic contaminants) 最安全、最有效率的方式特別是針對(duì)”矽晶片”，”砷化鎵”，”石英”，”藍(lán)寶石”，”玻璃”，”云母”，”陶瓷” 及”金屬” 等材料。
更新時(shí)間:2025-08-21
日本sen 紫外線(xiàn)uv清洗燈,清除石臘，松香，油脂，人體體油，以及殘余的光刻膠/聚酰亞胺和環(huán)氧樹(shù)脂，提高親水性，增強(qiáng)粘貼性。
更新時(shí)間:2025-08-21
美國(guó)uvitron 全功能紫外光源 intelli-ray 400w， intelli-ray 600w，•all-in-one 全內(nèi)置設(shè)計(jì)•智能控制時(shí)間和強(qiáng)度•集成電子快門(mén)•plc 或 pc 程控•高強(qiáng)度、大面積固化•功率穩(wěn)定一致•可選 rayven
更新時(shí)間:2025-08-21
uv臭氧清洗改質(zhì)機(jī)lxy-pl110x16清除玻璃/塑料/金屬/陶瓷/硅/電子器件等表面有機(jī)污染, 適合生產(chǎn)過(guò)程流水線(xiàn)批量作業(yè)。
更新時(shí)間:2025-08-21
uv臭氧清洗改質(zhì)機(jī)lxy-pl110x16清除玻璃/塑料/金屬/陶瓷/硅/電子器件等表面有機(jī)污染, 適合生產(chǎn)過(guò)程流水線(xiàn)批量作業(yè)。
更新時(shí)間:2025-08-21
德國(guó) pva tepla 等離子清洗機(jī)ion 100 wb,旨在滿(mǎn)足客戶(hù)大批量生產(chǎn)的需求，著重于表面處理的多功能性和可控性。其先進(jìn)的性能提供了出色的工藝控制、失效報(bào)警系統(tǒng)和數(shù)據(jù)采集軟件。
更新時(shí)間:2025-08-21
半導(dǎo)體器件生產(chǎn)中硅片須經(jīng)嚴(yán)格清洗。微量污染也會(huì)導(dǎo)致器件失效。清洗的目的在于清除表面污染雜質(zhì)，包括有機(jī)物和無(wú)機(jī)物。這些雜質(zhì)有的以原子狀態(tài)或離子狀態(tài)，有的以薄膜形式或顆粒形式存在于硅片表面。有機(jī)污染包括光刻膠、有機(jī)溶劑殘留物、合成蠟和人接觸器件、工具、器皿帶來(lái)的油脂或纖維。
更新時(shí)間:2025-08-21
眾瀕柔性微電子打印機(jī) 液態(tài)金屬導(dǎo)電噴墨，為微電子打印機(jī)。點(diǎn)膠、刮涂、噴墨三工藝，可打印范圍廣，高性?xún)r(jià)比。為微電子打印機(jī)。點(diǎn)膠、刮涂、噴墨三工藝，可打印范圍廣，高性?xún)r(jià)比。
更新時(shí)間:2025-08-21
大氣低溫等離子清洗機(jī) ，等離子清洗，多種槍頭可選，多種配置可選
更新時(shí)間:2025-08-21
大氣等離子清洗機(jī)，等離子清洗，多種槍頭可選，多種配置可選
更新時(shí)間:2025-08-21
真空等離子清洗機(jī)，真空等離子清行，進(jìn)口系統(tǒng)可選，多種配置可選
更新時(shí)間:2025-08-21
眾瀕5l真空等離子清洗機(jī)，真空低溫清洗，更適合易熱形變類(lèi)物體，雙路氣體接入，智能中控，操作更簡(jiǎn)單。
更新時(shí)間:2025-08-21
眾瀕小型射頻真空等離子清洗機(jī)實(shí)驗(yàn)室桌面儀器表面改質(zhì)親水性提升，真空低溫清洗，更適合易熱形變類(lèi)物體，雙路氣體接入，智能中控，操作更簡(jiǎn)單。
更新時(shí)間:2025-08-21
最新技術(shù)的兆聲和清洗技術(shù)的發(fā)展，對(duì)mems和半導(dǎo)體等領(lǐng)域的晶圓和掩模版清洗提供了最新的水平，可以幫助用戶(hù)獲得最干凈的晶圓片和掩模版。nano-master提供兆聲單晶圓&掩模清洗(swc)系統(tǒng)，用于最先進(jìn)的無(wú)損兆聲清洗？梢赃m用于易受損的帶圖案或無(wú)圖案的基片，包含帶保護(hù)膜的掩模版。為了在確保不損傷基片的情況下達(dá)到最優(yōu)化的清洗效果，兆聲能量的密度必須保持在稍稍低于樣片上任意位置上的損傷閾值。nano-master的專(zhuān)利技術(shù)確保了聲波能量均勻分布到整個(gè)基片表面，通過(guò)分布能量的最大化支持最理想的清洗，同時(shí)保證在樣片的損傷閾值范圍內(nèi)。
更新時(shí)間:2025-08-21
清洗技術(shù)的發(fā)展，對(duì)mems和半導(dǎo)體等領(lǐng)域的晶圓和掩模版清洗提供了最新的水平，可以幫助用戶(hù)獲得最干凈的晶圓片和掩模版。nano-master提供兆聲單晶圓&掩模清洗(swc)系統(tǒng)，用于最先進(jìn)的無(wú)損兆聲清洗？梢赃m用于易受損的帶圖案或無(wú)圖案的基片，包含帶保護(hù)膜的掩模版。為了在確保不損傷基片的情況下達(dá)到最優(yōu)化的清洗效果，兆聲能量的密度必須保持在稍稍低于樣片上任意位置上的損傷閾值。nano-master的專(zhuān)利技術(shù)確保了聲波能量均勻分布到整個(gè)基片表面，通過(guò)分布能量的最大化支持最理想的清洗，同時(shí)保證在樣片的損傷閾值范圍內(nèi)。
更新時(shí)間:2025-08-21
最新技術(shù)的兆聲和清洗技術(shù)的發(fā)展，對(duì)mems和半導(dǎo)體等領(lǐng)域的晶圓和掩模版清洗提供了最新的水平，可以幫助用戶(hù)獲得最干凈的晶圓片和掩模版。
更新時(shí)間:2025-08-21
最新技術(shù)的兆聲和清洗技術(shù)的發(fā)展，對(duì)mems和半導(dǎo)體等領(lǐng)域的晶圓和掩模版清洗提供了最新的水平，可以幫助用戶(hù)獲得最干凈的晶圓片和掩模版。
更新時(shí)間:2025-08-21
最新技術(shù)的兆聲和清洗技術(shù)的發(fā)展，對(duì)mems和半導(dǎo)體等領(lǐng)域的晶圓和掩模版清洗提供了最新的水平，可以幫助用戶(hù)獲得最干凈的晶圓片和掩模版。
更新時(shí)間:2025-08-21
產(chǎn)品用途：采用脈沖式增壓清洗方式，除去吸嘴內(nèi)壁中的污垢。工作原理：通過(guò)高壓射流技術(shù)，細(xì)微的水霧顆粒連續(xù)加壓將水碎化，產(chǎn)生約3-10um顆粒的水霧，以音速（v=360m/s)形成強(qiáng)大的脈沖式動(dòng)能?chē)娚涞轿焐希棵肟蛇_(dá)30次脈沖頻率，在待清洗的吸嘴上方形成一個(gè)持續(xù)的能量場(chǎng)，粉碎表面和內(nèi)部的污垢，達(dá)到之清洗目的。測(cè)量范圍：-50-1050（℃）測(cè)溫分辨
更新時(shí)間:2025-08-20
該系類(lèi)單槽式超聲波清洗機(jī)選用水基清洗劑，成本低廉，清洗效果好，是最理想、最實(shí)惠的清洗設(shè)備.
更新時(shí)間:2025-08-20
雙槽式系列超音波氣相清洗機(jī)使用不燃性有機(jī)溶劑作為清洗劑。主要適用于清洗電子零件及線(xiàn)路板上的松香、精密機(jī)械零件的油脂、表殼表帶的污垢等等。有快速洗凈和干燥的優(yōu)點(diǎn)，適宜于連續(xù)生產(chǎn)。
更新時(shí)間:2025-08-20
利用適當(dāng)?shù)男⌒惋L(fēng)扇,依靠電機(jī)高速驅(qū)動(dòng)風(fēng)機(jī)葉輪產(chǎn)生負(fù)壓差,吸入雜質(zhì)而成,適用于小麥、稻谷中雜質(zhì)的清理，不適用于玉米等大顆粒中的雜質(zhì)清理。該機(jī)具有造型美觀(guān)、堅(jiān)固耐用、體積小、重量輕、操作簡(jiǎn)單、更換零件簡(jiǎn)單、機(jī)械性能穩(wěn)定、噪聲小、除雜速度快、自動(dòng)進(jìn)料等特點(diǎn)。
更新時(shí)間:2025-08-20
三頻數(shù)控超聲波清洗機(jī)突破了幾十年來(lái)機(jī)單頻的傳統(tǒng)形式，低頻25khz、中頻40khz、高頻80khz設(shè)定手動(dòng)或自動(dòng)轉(zhuǎn)換，使工件得到粗細(xì)、漂洗精洗，克服了清洗的死角，使工件清洗得周到，服務(wù)更周全。臺(tái)清洗設(shè)備能替代三臺(tái)清洗設(shè)備的使用效果。適用于工礦企業(yè)、大院？蒲袉挝桓呔鹊那逑础⒚摎、混勻、乳化、消泡及細(xì)胞破碎。
更新時(shí)間:2025-08-20
超聲波清洗機(jī) rsa系列：全不銹鋼，機(jī)械定時(shí)，配網(wǎng)架，蓋子，60a，120a無(wú)排水，其它均有排水閥
更新時(shí)間:2025-08-20
冷、熱水高壓清洗機(jī)緊湊型冷、熱水高壓清洗機(jī)。非常友好的鍵操縱，底盤(pán)集成油箱，高壓管及附件存儲(chǔ)槽。
更新時(shí)間:2025-08-20
使用目的：物件的清洗、脫氣、消毒、乳化、混勻、置換、提取。 使用部門(mén)：工礦企業(yè)，大專(zhuān)院？蒲袉挝粚(shí)驗(yàn)室；醫(yī)院；電子車(chē)間流水線(xiàn)；鐘表眼鏡店、珠寶首飾店；家庭。
更新時(shí)間:2025-08-20
適用產(chǎn)品：眼鏡、項(xiàng)鏈、耳環(huán)、手鐲、電子產(chǎn)品、手表、假牙、打印機(jī)墨頭（不需的清洗液，只需自來(lái)水即可）、剃須刀頭、筆尖、錢(qián)幣、徽章、奶嘴等
更新時(shí)間:2025-08-20
cd vcd dvd盤(pán)片、小五金、珠寶、手表、項(xiàng)鏈、耳環(huán)、戒指、手鐲、硬幣 、眼鏡、太陽(yáng)眼鏡、打印機(jī)墨頭 、假牙、梳子、牙刷
更新時(shí)間:2025-08-20
適用產(chǎn)品：打印機(jī)墨頭（不需的清洗液，只需自來(lái)水即可）、電子產(chǎn)品、眼鏡、項(xiàng)鏈、耳環(huán)、手鐲、手表、假牙、醫(yī)療器械、機(jī)械五金零配件、高爾夫球、cd盤(pán)片、剃須刀頭、筆尖、錢(qián)幣、徽章、奶瓶、奶嘴等
更新時(shí)間:2025-08-20
眼鏡、項(xiàng)鏈、耳環(huán)、手鐲、電子產(chǎn)品、手表、假牙、打印機(jī)墨頭（不需的清洗液，只需自來(lái)水即可）、剃須刀頭、筆尖、錢(qián)幣、徽章、奶嘴等
更新時(shí)間:2025-08-20
眼鏡店、珠寶店、鐘表店、手機(jī)維修店、辦公用品及家庭用品、禮品等
更新時(shí)間:2025-08-20
vcd dvd盤(pán)片、小五金、珠寶、手表、項(xiàng)鏈、耳環(huán)、戒指、手鐲、硬幣 、眼鏡、太陽(yáng)眼鏡、打印機(jī)墨頭、假牙、梳子、牙刷
更新時(shí)間:2025-08-20
打印機(jī)墨頭（不需的清洗液，只需自來(lái)水即可）、電子產(chǎn)品、眼鏡、項(xiàng)鏈、耳環(huán)、手鐲、手表、假牙、醫(yī)療器械、機(jī)械五金零配件、高爾夫球、cd盤(pán)片、剃須刀頭、筆尖、錢(qián)幣、徽章、奶瓶、奶嘴等
更新時(shí)間:2025-08-20
當(dāng)?shù)纳鐣?huì)，人們幾乎無(wú)處可逃，不能避免的陷入各種污染，在物質(zhì)不斷增加滿(mǎn)足人們欲望的同時(shí)，我們也在審視自己已經(jīng)進(jìn)入誤區(qū)，不得不奮力擺脫自己加給自己的這種傷害。
更新時(shí)間:2025-08-20
加裝置采用進(jìn)口耐溫高分子材料，隔裝置采用無(wú)縫特鋼材質(zhì)，所測(cè)樣品無(wú)論是液體、顆粒、粉末，對(duì)儀器均無(wú)任何腐蝕、損壞（包括化工產(chǎn)品）。
更新時(shí)間:2025-08-20
sfy系列紅外線(xiàn)快速水分測(cè)定儀，采用解重量原理設(shè)計(jì)，是一種快速的水分檢測(cè)儀器。水分測(cè)定儀在測(cè)量樣品重量的同時(shí)
更新時(shí)間:2025-08-20
普通磨料清潔度測(cè)定儀用于各類(lèi)人造磨料和天然磨料的清潔度檢測(cè)。通常磨料的清潔度越高，說(shuō)明磨料顆粒的表面所粘附的細(xì)小顆粒越少，有效磨粒所占的比率就越高，使用時(shí)其使用壽命越長(zhǎng)，是磨料性能的一項(xiàng)重要指標(biāo)。
更新時(shí)間:2025-08-20
只要接上進(jìn)水管，就自動(dòng)進(jìn)水，水位到定高度就快速下水，達(dá)到?jīng)_洗目的. 該自動(dòng)清洗筒使用方便，不用電，不需人看管，是大院校、科研單位及醫(yī)院清洗各種移液管的理想清洗設(shè)備
更新時(shí)間:2025-08-20
鍋爐在使用一定時(shí)期后，煙管與水管內(nèi)產(chǎn)生凝結(jié)成多層煙垢和水垢，導(dǎo)致大量降低鍋爐的“效應(yīng)”，并加劇縮短鍋爐使用壽命。如不定期對(duì)管道進(jìn)行清洗，更有可能釀成鍋爐爆炸。
更新時(shí)間:2025-08-20
地源泵管道清洗機(jī)管道清洗機(jī) 適用于地源泵冷凝器，換器，交換器，空氣預(yù)器，蒸發(fā)器，加器，冷卻器，吸收器，省煤器等管路的清潔。
更新時(shí)間:2025-08-20
我公司根據(jù)實(shí)驗(yàn)室玻璃器皿的清洗規(guī)范以及手工清洗方法，開(kāi)發(fā)生產(chǎn)了適合實(shí)驗(yàn)室清洗玻璃器皿的設(shè)備--玻璃器皿清洗器。
更新時(shí)間:2025-08-20
jc521-265-3型自動(dòng)毛細(xì)管粘度計(jì)清洗器是專(zhuān)為清洗石油產(chǎn)品試驗(yàn)用毛細(xì)管粘度計(jì)而設(shè)計(jì)制造的自動(dòng)清洗器。
更新時(shí)間:2025-08-20
技術(shù)參數(shù) ·燃燒器體積 3.5l ·鍋爐材質(zhì) 18/10不銹鋼
更新時(shí)間:2025-08-20
英鵬防爆高壓清洗機(jī)是一種特殊的清洗設(shè)備，具有防爆和高壓的特性，適用于易燃易爆和高壓環(huán)境下的清洗工作。該設(shè)備通常由防爆電機(jī)、高壓泵、高壓噴槍、安全閥等組成，具有高效、安全、可靠等優(yōu)點(diǎn)。
更新時(shí)間:2025-08-20
最新產(chǎn)品
- Rubis鑷子SSB-SA 2025/8/21 23:19:47
- Rubis鑷子1K020 2025/8/21 23:17:46
- Rubis鑷子3C-SA 2025/8/21 23:15:45
- Rubis鑷子PP-SA 2025/8/21 23:13:45
- Rubis鑷子AA-SA 2025/8/21 23:11:44
- Rubis鑷子11-Nickel 2025/8/21 23:09:44
- Rubis鑷子0C9-SA 2025/8/21 23:07:43
- Rubis鑷子FTP-SA 2025/8/21 23:05:43
- Rubis鑷子SS-SA 2025/8/21 23:03:42
- Rubis鑷子3-SA 2025/8/21 23:01:42
- Rubis鑷子27-SA 2025/8/21 22:59:41
- Rubis鑷子26-SA 2025/8/21 22:57:41
- Rubis鑷子44-SA 2025/8/21 22:55:40
- Rubis鑷子1-SA 2025/8/21 22:53:39
- Rubis鑷子H-SA 2025/8/21 22:51:38
- Rubis鑷子00D-SA 2025/8/21 22:49:38
- Rubis鑷子00C-SA 2025/8/21 22:47:37
- Rubis鑷子00B-SA 2025/8/21 22:45:37
- Rubis鑷子000-SA 2025/8/21 22:43:36
- Rubis鑷子00-SA 2025/8/21 22:41:35
- Rubis鑷子7G-SA 2025/8/21 22:39:33
- Rubis鑷子5ARG-SA 2025/8/21 22:37:33
- Rubis鑷子5AG-SA 2025/8/21 22:35:32
- Rubis鑷子5G-SA 2025/8/21 22:33:31
- Rubis鑷子4G-SA 2025/8/21 22:31:31
- Rubis鑷子3CG-SA 2025/8/21 22:29:31
- Rubis鑷子3G-SA 2025/8/21 22:27:30
- Rubis鑷子2AG-SA 2025/8/21 22:25:30
- Rubis鑷子2G-SA 2025/8/21 22:23:29
- Rubis鑷子1G-SA 2025/8/21 22:21:29