清洗機產(chǎn)品及廠家

大氣等離子清洗機 表面活化改性處理活性增強工業(yè)設(shè)備實驗室用
大氣等離子清洗機，等離子清洗，多種槍頭可選，多種配置可選
更新時間:2025-08-21
真空等離子清洗機 表面改性處理活性增強 實驗室設(shè)備工業(yè)用
真空等離子清洗機，真空等離子清行，進口系統(tǒng)可選，多種配置可選
更新時間:2025-08-21
眾瀕5L真空等離子清洗機低溫塑料清洗表面改性實驗室小型儀器工業(yè)
眾瀕5l真空等離子清洗機，真空低溫清洗，更適合易熱形變類物體，雙路氣體接入，智能中控，操作更簡單。
更新時間:2025-08-21
眾瀕小型射頻真空等離子清洗機實驗室桌面儀器表面改質(zhì)親水性提升
眾瀕小型射頻真空等離子清洗機實驗室桌面儀器表面改質(zhì)親水性提升，真空低溫清洗，更適合易熱形變類物體，雙路氣體接入，智能中控，操作更簡單。
更新時間:2025-08-21
LSC-5000 (AC) 全自動兆聲大基片清洗系統(tǒng)
最新技術(shù)的兆聲和清洗技術(shù)的發(fā)展，對mems和半導(dǎo)體等領(lǐng)域的晶圓和掩模版清洗提供了最新的水平，可以幫助用戶獲得最干凈的晶圓片和掩模版。nano-master提供兆聲單晶圓&掩模清洗(swc)系統(tǒng)，用于最先進的無損兆聲清洗？梢赃m用于易受損的帶圖案或無圖案的基片，包含帶保護膜的掩模版。為了在確保不損傷基片的情況下達到最優(yōu)化的清洗效果，兆聲能量的密度必須保持在稍稍低于樣片上任意位置上的損傷閾值。nano-master的專利技術(shù)確保了聲波能量均勻分布到整個基片表面，通過分布能量的最大化支持最理想的清洗，同時保證在樣片的損傷閾值范圍內(nèi)。
更新時間:2025-08-21
LSC-4000 (D) 兆聲大基片濕法去膠系統(tǒng)
清洗技術(shù)的發(fā)展，對mems和半導(dǎo)體等領(lǐng)域的晶圓和掩模版清洗提供了最新的水平，可以幫助用戶獲得最干凈的晶圓片和掩模版。nano-master提供兆聲單晶圓&掩模清洗(swc)系統(tǒng)，用于最先進的無損兆聲清洗？梢赃m用于易受損的帶圖案或無圖案的基片，包含帶保護膜的掩模版。為了在確保不損傷基片的情況下達到最優(yōu)化的清洗效果，兆聲能量的密度必須保持在稍稍低于樣片上任意位置上的損傷閾值。nano-master的專利技術(shù)確保了聲波能量均勻分布到整個基片表面，通過分布能量的最大化支持最理想的清洗，同時保證在樣片的損傷閾值范圍內(nèi)。
更新時間:2025-08-21
SWC-5000 (AD) 全自動兆聲濕法去膠系統(tǒng)
最新技術(shù)的兆聲和清洗技術(shù)的發(fā)展，對mems和半導(dǎo)體等領(lǐng)域的晶圓和掩模版清洗提供了最新的水平，可以幫助用戶獲得最干凈的晶圓片和掩模版。
更新時間:2025-08-21
SWC-3000 (W) 兆聲晶圓清洗機
最新技術(shù)的兆聲和清洗技術(shù)的發(fā)展，對mems和半導(dǎo)體等領(lǐng)域的晶圓和掩模版清洗提供了最新的水平，可以幫助用戶獲得最干凈的晶圓片和掩模版。
更新時間:2025-08-21
SWC-4000 (W) 兆聲晶圓清洗機
最新技術(shù)的兆聲和清洗技術(shù)的發(fā)展，對mems和半導(dǎo)體等領(lǐng)域的晶圓和掩模版清洗提供了最新的水平，可以幫助用戶獲得最干凈的晶圓片和掩模版。
更新時間:2025-08-21
精科創(chuàng)全自動貼片機吸嘴清洗機
產(chǎn)品用途：采用脈沖式增壓清洗方式，除去吸嘴內(nèi)壁中的污垢。工作原理：通過高壓射流技術(shù)，細微的水霧顆粒連續(xù)加壓將水碎化，產(chǎn)生約3-10um顆粒的水霧，以音速（v=360m/s)形成強大的脈沖式動能噴射到吸嘴上，每秒可達30次脈沖頻率，在待清洗的吸嘴上方形成一個持續(xù)的能量場，粉碎表面和內(nèi)部的污垢，達到之清洗目的。測量范圍：-50-1050（℃）測溫分辨
更新時間:2025-08-20

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