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日立高新磁控濺射器MC1000
日立高新磁控濺射器(hitachi ion sputter )mc1000采用了電磁管電極,能夠最大限度地減輕對樣品的損壞,并在樣品表面涂覆一層均勻粒子。適用于高分辨率的掃描式電子顯微鏡。日立高新磁控濺射器(hitachi ion sputter )mc1000的最大樣品直徑:60 mm日立高新磁控濺射器(hitachi ion sputter )mc1000的最大樣品高度:20 mm
更新時間:2025-06-24

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