馬弗爐/電阻爐產(chǎn)品及廠家

高溫馬弗爐
高溫馬弗爐ssx-8-16又稱箱式電阻爐、硅鉬棒加熱、雙鉑銠熱電偶，本系列電阻爐系周期作業(yè)式，以硅鉬棒為加熱元件,爐膛額定溫度為1600℃。供實驗室、工礦企業(yè)、科研用爐門通過多鉸鏈固定在電爐上，爐門的關閉時利用爐門的自重，通過杠桿作用將爐門緊貼于爐口
更新時間:2025-05-15
箱式電阻爐
箱式電阻爐sx2-8-10可供實驗室、工礦企業(yè)、科研單位作元素分析測定和一般小型鋼件淬火、退火、回火等熱處理加熱用，高溫爐還可作金屬、陶瓷的燒結、溶解、分析等高溫加熱用。
更新時間:2025-05-15
雙管定碳爐
雙管定碳爐sk2-2.5-13ts，高穩(wěn)定碳爐是供實驗室、工礦企業(yè)、科研部門等單位做化學分析、物理測定及熱電偶檢定等加熱用。sk2-2.5-13ts以硅碳棒為加熱元件，用于分析、測定普通鋼或合金鋼中含碳量或含硫量高低時加熱用。
更新時間:2025-05-15
單管定碳爐
單管定碳爐sk2-1.5-13t高穩(wěn)定碳爐是供實驗室、工礦企業(yè)、科研部門等單位做化學分析、物理測定及熱電偶檢定等加熱用。定碳爐以硅碳棒為加熱元件，用于分析、測定普通鋼或合金鋼中含碳量或含硫量高低時加熱用。
更新時間:2025-05-15
數(shù)顯箱式電阻爐
sx2-10-12-s數(shù)顯箱式電阻爐系周期作業(yè)式，供實驗室、工礦企業(yè)、科研單位作元素分析，測定和一般小型鋼件做淬火、退火、回火等熱處理；高溫爐還可作金屬、陶瓷的燒結、熔融、分析等高溫加熱用。工作室是用耐火材料制成整體箱式爐膛、加熱元件采用內置式
更新時間:2025-05-15
高溫馬弗爐
高溫馬弗爐sx2-18-12-s本系列電阻爐系周期作業(yè)式，供實驗室、工礦企業(yè)、科研單位作元素分析，測定和一般小型鋼件做淬火、退火、回火等熱處理；高溫爐還可作金屬、陶瓷的燒結、熔融、分析等高溫加熱用。
更新時間:2025-05-15
箱式電阻爐
箱式電阻爐ssx-12-16本系列電阻爐系周期作業(yè)式，以硅鉬棒為加熱元件,爐膛額定溫度為1600℃。供實驗室、工礦企業(yè)、科研單位作金屬、陶瓷的燒結、熔融、分析等高溫加熱用。本高溫爐電阻爐需與ksy-12d-18型溫度控制器及雙鉑銠熱電偶配套使用，由此進行電溫度的測量、指示及自動控制。
更新時間:2025-05-15
一體式箱式電阻爐
sx2-4-10-n一體式箱式電阻爐，爐體與控制器設計成一體、智能型控溫儀、led數(shù)字顯示，本系列電阻爐把爐體、控制器及熱電偶等設計、制作成一體，比較先進、合理，整機出廠時已安裝、調試，用戶接上電源就能使用。克服了原來用戶選用分體式電阻爐后需要再自行安裝、調試所碰到一系列困難和矛盾。大大方便用戶
更新時間:2025-05-15
一體化箱式電阻爐
一體化箱式電阻爐sx2-5-12-n系周期作業(yè)式，供實驗室、工礦企業(yè)、科研單位作元素分析，測定和一般小型鋼件做淬火、退火、回火等熱處理；高溫爐還可作金屬、陶瓷的燒結、熔融、分析等高溫加熱用，爐殼選用優(yōu)質冷軋鋼板經(jīng)折疊，焊接制成，表面采用靜電噴塑處理，使設備耐用、抗高溫。爐門設計合理，具有開啟方便、安全，能確保爐內高溫氣體不外泄，達到高效、節(jié)能、環(huán)保要求。
更新時間:2025-05-15
MF型微波灰化馬弗爐
mf型微波灰化馬弗爐是實驗室專用的標準微波高溫設備，適用于各種有機和無機物的灰化、硫化、熔融、烘干、熱處理以及灼燒殘渣、燒失量等的測試
更新時間:2025-05-14
MF型微波高溫馬弗爐
型微波高溫馬弗爐是實驗室專用的標準微波高溫設備，適用于空氣氣氛條件下微波合成、微波灰化、微波膨化、微波熱處理、微波焙燒、微波煅燒、微波燒結等工藝實驗研究。產(chǎn)品型號mf型微波高溫馬弗爐主要特點1、采用工業(yè)級微波源，微波輸出功率無級可調，確保設備連續(xù)穩(wěn)定長時間運行。2、采用獨創(chuàng)保溫結構，節(jié)能高效，對物料無污染。3、可大幅度提高實驗效率，物料加熱速度快，均勻性好，燒結材料晶粒小，性能好。
更新時間:2025-05-14
1200℃井式爐（9L）VBF-1200X
1200℃井式爐（9l）vbf-1200x采用進口電阻絲、k型熱電偶和30段可編程溫度控制器，最高溫度可達1250℃，連續(xù)工作時可達1100℃，控溫精度±1℃。爐門采用上開式結構，方便客戶放取樣品。本機具有體積小、重量輕、溫場均衡、表面溫度低、升降溫度速率快、節(jié)能等優(yōu)點，是高校、科研院所、工礦企業(yè)進行高溫燒結、金屬退火、質量檢測的理想設備。
更新時間:2025-05-14
1500℃真空立式淬火爐OTF-1500X-80-VTQ
1500℃真空立式淬火爐otf-1500x-80-vtq一款是立式可開啟真空管式淬火爐，配有一個密封的液體容器用于樣品淬火，樣品可從最高溫度1500℃環(huán)境中快速落入冰水或冷油中，可用于研究材料相轉變和微結構性能。
更新時間:2025-05-14
2100℃高溫鎢加熱爐HVF-2100W-6
2100℃高溫鎢加熱爐hvf-2100w-60適用于高真空狀態(tài)下對金屬、非金屬及其化合物進行燒結、熔化，如硬質合金、鎳基合金、粉末冶金、鎳鈷合金、合金鋼、不銹鋼、稀土釹鐵錋等。
更新時間:2025-05-14
1100℃豎式馬弗爐GSL-1100D11
1100℃豎式馬弗爐gsl-1100d11是大型的豎式馬弗爐，其最高溫度為1100℃，精確的溫控系統(tǒng)包含了30段升溫和降溫曲線設置，其控溫精度達到± 1℃，爐體垂直安裝在可移動的支架上方便爐管的取放，是金屬退火和高溫燒結的最佳理想設
更新時間:2025-05-14
1500℃快速升溫管式爐GSL-1500X-RTP50
1500℃快速升溫管式爐gsl-1500x-rtp50是一款高溫管式爐，工作溫度能夠達到1500℃。本機底部設有一對滑軌，爐管通過滑軌可進行滑動平移，能夠實現(xiàn)快速升溫和降溫的效果。為了實現(xiàn)最快速度的加熱，可在理想的溫度下進行爐管的預加；為了更快速的冷卻，可移出爐管強迫進行空氣冷卻。因此，本機可廣泛用于冶金、機械、輕工、商檢、高等院校及科研部門，其性能可達到國外同類產(chǎn)品的標準。
更新時間:2025-05-14
1000℃臥式馬弗爐
000℃臥式馬弗爐爐襯使用真空成型高純氧化鋁聚輕材料，采用電阻絲為加熱元件，且均勻地分布六面墻體，有效的保證了溫場的均勻性。測溫采用性能穩(wěn)定、長壽命的“s”型熱電偶，以提高控溫的精準性
更新時間:2025-05-14
1100℃高壓爐OTF-1200X-HP-55
1100℃高壓爐otf-1200x-hp-55是開啟式高溫高壓管式爐，爐管采用 ss310s鎳基合金鋼制作而成，最高壓力高達20mpa，最高溫度可達1100℃，并可通入多種氧化或惰性保護氣體，是用于高壓制備新材料，以及作為小型熱等靜壓處理合金樣品的理想設備。
更新時間:2025-05-14
可滑動RTP爐OTF-1200X-4-RTP-SL
可滑動rtp爐otf-1200x-4-rtp-sl是一種快速熱處理爐，采用紅外燈加熱和移動爐體快速冷卻，可獲得最高升溫速率為100°c/s 、降溫速率為5°c/s。
更新時間:2025-05-14
1800℃高溫真空管式爐
800℃高溫真空管式爐gsl-1800x-s內膛中嵌有zro2內襯，并采用kanthal super-1900硅鉬棒為加熱元件，最高溫度可以達到1800℃，廣泛用于真空或惰性氣體保護狀態(tài)下，新材料樣品的燒結和退火。
更新時間:2025-05-14
1200℃單溫區(qū)可傾斜旋轉爐OTF-1200X-4-R
1200℃單溫區(qū)可傾斜旋轉爐otf-1200x-4-r是針對無機化合物煅燒，為獲得較好的一致性而設計。特別對于鋰電池負極材料的制備，具有極好的效果，且可提高導電性。此外，還可應用在粉體材料上涂層，如lifepo3、limnnio3等材料的研究和開發(fā)。
更新時間:2025-05-14
1500℃單溫區(qū)可傾斜旋轉管式爐
1500℃單溫區(qū)可傾斜旋轉管式爐gsl-1500x-otf-r60是專門為無機混合物在真空或氣氛保護環(huán)境下均勻地混燒而設計的，其最高溫度可達1500℃。
更新時間:2025-05-14
1200℃五溫區(qū)獨立控制管式爐OTF-1200X-V
1200℃五溫區(qū)獨立控制管式爐otf-1200x-v（定制）采用獨立的溫控裝置，可離開爐體進行溫控操作，通過調節(jié)各個溫區(qū)的溫度，可以在加熱區(qū)內形成四段溫度梯度，或形成較長的恒溫區(qū)域。本機具有控溫精度高，保溫效果好，溫度范圍大，溫度均勻性高，溫區(qū)多，可通氣氛抽真空及安全可靠、操作簡單等特點。
更新時間:2025-05-14
1800℃高溫真空管式爐GSL-1800X
1800℃高溫真空管式爐gsl-1800x內膛中嵌有zro2內襯，并采用kanthal super-1900硅鉬棒為加熱元件，最高溫度可以達到1800℃，廣泛用于真空或惰性氣體保護狀態(tài)下，新材料樣品的燒結和退火？販貎x表操作視頻
更新時間:2025-05-14
1700℃立式淬火爐GSL-1700X-80VTQ
1700℃立式淬火爐gsl-1700x-80vtq采用直徑80mm的氧化鋁爐管、下置淬冷水箱結構，專為淬火樣品能從高溫狀態(tài)進入冷水或油等淬冷介質中快速冷卻而設計，以研究材料階段性過渡和微觀結構。
更新時間:2025-05-14
1700℃立式高溫管式爐GSL-1700X-80VT
700℃立式高溫管式爐gsl-1700x-80vt采用硅鉬棒進行加熱，最高溫度可以達到1700℃，專門針對于材料在真空或氣氛保護環(huán)境下的燒結。溫控系統(tǒng)采用pid控制器，可設置30段升降溫程序，控溫精度為± 1℃。
更新時間:2025-05-14
1700℃三溫區(qū)高溫真空管式爐GSL-1700X-Ⅲ
1700℃三溫區(qū)高溫真空管式爐gsl-1700x-ⅲ采用三個數(shù)字溫度控制器進行獨立控溫，可設置30段升降溫程序，中心加熱區(qū)采用800℃級硅鉬棒加熱，另外兩個溫區(qū)采用硅碳棒進行加熱，調整三個溫區(qū)的溫度，可形成一個溫度梯度，進行功
更新時間:2025-05-14
1700℃真空高溫管式爐GSL-1700X-S60
1700℃真空高溫管式爐gsl-1700x-s60采用18
更新時間:2025-05-14
1700℃真空管式爐GSL-1700X-S
1700℃真空管式爐gsl-1700x-s采用30段程控pid控溫儀，最高溫度可達到1700℃，可廣泛地用于真空或惰性氣體保護狀態(tài)下材料的燒結和退火。
更新時間:2025-05-14
1700℃高溫真空氣氛管式爐GSL-1700X
1700℃高溫真空氣氛管式爐gsl-1700x采用1700℃級硅鉬棒為加熱元件，最高溫度可達到1700℃，可廣泛地用于真空或惰性氣體保護狀態(tài)下材料的燒結和退火？販貎x表操作視頻
更新時間:2025-05-14
1600℃三溫區(qū)高溫真空管式爐GSL-1600X-III
1600℃三溫區(qū)高溫真空管式爐gsl-1600x-iii主要用于高等院校、科研院所、工礦企業(yè)等實驗或小批量生產(chǎn)，針對電子陶瓷的預燒、燒結、鍍膜、高溫熱解低溫沉積（cvd）等工藝。
更新時間:2025-05-14
1600℃真空高溫管式爐GSL-1600X-S
1600℃真空高溫管式爐gsl-1600x-s加熱元件采用1750℃級硅鉬棒，廣泛用于真空或惰性氣體保護狀態(tài)下，新材料樣品的燒結或退火。
更新時間:2025-05-14
1600℃真空高溫管式爐GSL-1600X
1600℃真空高溫管式爐gsl-1600x加熱元件采用1700℃級硅鉬棒，廣泛用于真空或惰性氣體保護狀態(tài)下，新材料樣品的燒結或退火？販貎x表操作
更新時間:2025-05-14
1400℃三溫區(qū)真空氣氛管式爐GSL-1400X-Ⅲ
1400℃三溫區(qū)真空氣氛管式爐gsl-1400x-ⅲ以硅碳棒為加熱元件，采用s型單鉑銠熱電偶測溫和708p溫控儀自動控溫。本機設有真空裝置，可在多種氣氛下工作，主要用于電子陶瓷產(chǎn)品的預燒、燒結、鍍膜、高溫熱解低溫沉積（cvd）等工藝，特別適合批量生產(chǎn)使用。gsl系列管式爐操作視頻
更新時間:2025-05-14
1500℃高溫真空管式爐GSL-1500X
1500℃高溫真空管式爐gsl-1500x是小型高溫管式爐，采用高純氧化鋁剛玉爐管和硅碳棒加熱元件，設有兩個真密封法蘭，控制系統(tǒng)采用高精度可控硅移相觸發(fā)控制，其控溫精度為±1℃，可設置30段升降溫程序，最高溫度可達1500℃。
更新時間:2025-05-14
1500℃單溫區(qū)開啟式管式爐OTF-1500X
500℃單溫區(qū)開啟式管式爐otf-1500x最高溫度可達1500℃，可設置30段升降溫程序，并設有過熱和斷偶保護功能，控溫精度高達±1℃，特別適合于在氣氛保護或真空環(huán)境下對樣品進行退火和燒結。
更新時間:2025-05-14
1500℃三溫區(qū)開啟式管式爐OTF-1500X-III
1500℃三溫區(qū)開啟式管式爐otf-1500x-iii是高溫管式爐，最高溫度可達1500℃，三個溫區(qū)分別用三個獨立的溫控系統(tǒng)控制，每個溫區(qū)都可以設置30段升降溫程序，并設有過熱和斷偶保護功能，控溫精度高達±1℃。本機特別適合于在氣氛保護或真空環(huán)境下對樣品進行退火和
更新時間:2025-05-14
1200℃開啟式雙溫區(qū)管式爐OTF-1200X-II
1200℃開啟式雙溫區(qū)管式爐otf-1200x-ii最高溫度可達到1200℃，并可通過調節(jié)兩個獨立的控溫程序，使爐管內溫度場形成一梯度。本機可用cvd方法來生長納米材料和制作各種薄膜。
更新時間:2025-05-14
1200℃開啟式管式爐OTF-1200X-5L
1200℃開啟式管式爐otf-1200x-5l是一款單溫區(qū)管式爐，爐管直徑φ 5″，長1400mm ，最高溫度可達到1200℃。本機可在各種氣氛保護下對樣品進行熱處理、沉積、燒結，是一款極佳的實驗設備。
更新時間:2025-05-14
1200℃單溫區(qū)開啟式真空管式爐OTF-1200X
1200℃單溫區(qū)開啟式真空管式爐otf-1200x是專為高等院校﹑科研院所的實驗室及工礦企業(yè)，在可控多種氣氛及真空狀態(tài)下，對金屬、非金屬及其它化合物進行燒結、熔化、分析而研制的專用設備。
更新時間:2025-05-14
1100℃ 16通道管式爐（高通量退火&淬火）
式爐共有16個通道，其爐管尺寸25 od x 20 id x 200 l mm 每個加熱模塊都有獨立的溫控系統(tǒng)控制，最高溫度可加熱到1100℃kf25的快接法蘭安裝在每根石英管上，可使樣品在真空或氣氛保護環(huán)境下進行熱處理加熱模塊有兩種工作位置，
更新時間:2025-05-14
8.5″帶滑動法蘭真空管式爐GSL-1100X-8.5-SR
品簡介：8.5″帶滑動法蘭真空管式爐gsl-1100x-8.5-sr是三溫區(qū)滑軌真空管式爐，可通入混合氣體進行低壓力化學氣相沉積處理。本機可在不同氣氛下，在≤6″的基片上生長多種薄膜。控溫儀表操作視頻
更新時間:2025-05-14
1100℃三溫區(qū)帶滑軌8.5″管式爐
產(chǎn)品簡介：1100℃三溫區(qū)帶滑軌8.5″管式爐gsl-1100x-8.5-sr-iii是三溫區(qū)滑軌真空管式爐，可通入混合氣體進行低壓力化學氣相沉積處理。本機可在不同氣氛下，在≤6″的基片上生長多種薄膜。
更新時間:2025-05-14
1100℃三溫區(qū)11″管式爐GSL-1100X-11-III
產(chǎn)品簡介：1100℃三溫區(qū)11″管式爐gsl-1100x-11-iii是三溫區(qū)大尺寸系列管式爐，爐管直徑達到11″。本機廣泛用于真空或氣氛保護環(huán)境下對材料進行燒結
更新時間:2025-05-14
大口徑管式真空氣氛爐GSL-1100X
產(chǎn)品簡介：大口徑管式真空氣氛爐gsl-1100x采用高純石英管，外徑規(guī)格有6″、8″、8.5″、11″可選，并配有不銹鋼法蘭，可進行抽真空或通入其他氣氛氣體操作，主要用于大尺寸樣品燒結的需求。
更新時間:2025-05-14
1200℃微型開啟式管式爐OTF-1200X-S
產(chǎn)品簡介：1200℃微型開啟式管式爐otf-1200x-s是小型管式爐，工作溫度為≤1200℃，功率為≤1200w，可配置直徑為1"或2"的高純石英爐管。爐管兩端配置一對不銹鋼法蘭，設有機械壓力表、不銹鋼截止閥和寶塔嘴接頭，允許樣品在真空和氣體保護下進行燒
更新時間:2025-05-14
1200℃立式真空小管式爐
產(chǎn)品簡介：1200℃立式真空小管式爐otf-1200x-s-vt是一款小型開啟式立式管式爐，適合于對樣品在真空或氣氛保護環(huán)境下吊燒和淬火。采用pid控制器進行溫度調節(jié)，可設置30段升降溫程序，控溫精度為± 1℃。
更新時間:2025-05-14
1200℃開啟式立式爐
產(chǎn)品簡介：1200℃開啟式立式爐otf-1200x-80-vt是可垂直開啟式管式氣氛爐，能夠實現(xiàn)在真空或氣氛保護條件下對樣品快速升降溫。本機可垂直安裝在可移動的支架上，方便爐管的取放。
更新時間:2025-05-14
1200℃七溫區(qū)獨立控制管式爐（定制）
產(chǎn)品簡介：1200℃七溫區(qū)獨立控制管式爐otf-1200x-vii（定制）采用獨立的溫控裝置，可離開爐體進行溫控操作，通過調節(jié)各個溫區(qū)的溫度，可以在加熱區(qū)內形成四段溫度梯度，或形成較長的恒溫區(qū)域。本機具有控溫精度高，保溫效果好，溫度范圍大，溫度均勻性高，溫區(qū)多，可通氣氛抽真空及安全可靠、操作簡單等特點。
更新時間:2025-05-14

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