干燥箱/烘箱產(chǎn)品及廠家
應(yīng)用于精密電子元件、pi、bcb膠高溫固化烘烤、光刻膠固化、電子陶瓷材料無塵烘干的特殊工藝要求，適用于觸摸屏、晶圓、led、pcb板、ito玻璃等精密電子、太陽能、新材料等行業(yè).
更新時(shí)間:2026-01-12
真空熱風(fēng)烘箱，高溫?zé)犸L(fēng)真空烤箱用于聚酰亞胺pi膠、cpi膠、bcb膠固化、低k電介質(zhì)固化，lcp材料熱處理、鍵合材料預(yù)處理，fowlp扇出封裝，ito膜/鋁/銅退火，pbo膠固化等特殊工藝。
更新時(shí)間:2026-01-12
secs/gem協(xié)議無塵烘箱，無塵烤箱用于半導(dǎo)體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃等材料涂膠的預(yù)處理烘烤、涂膠后堅(jiān)膜烘烤和顯影后的高溫烘烤；設(shè)備可以使用tcp / ip（使用hsms標(biāo)準(zhǔn)，semi e37）或基于rs-232的協(xié)議與支持gem的主機(jī)進(jìn)行通信通常這兩種協(xié)議都受支持。每臺(tái)設(shè)備都可以使用由gem指定的通用secs-ii消息進(jìn)行監(jiān)控和控制。
更新時(shí)間:2026-01-12
塑封固化用潔凈烘箱采用自動(dòng)加熱的方式對(duì)其進(jìn)行保溫固化，固化溫度維持在 175℃，固化時(shí)間為 8 小時(shí)。塑封固化的主要作用是消除塑封料內(nèi)部的應(yīng)力。
更新時(shí)間:2026-01-12
12寸hmds真空烤箱，芯片hmds烘箱通過對(duì)烘箱預(yù)處理過程的工作溫度、處理時(shí)間、處理時(shí)保持時(shí)間等參數(shù)的控制可以在硅片、基片表面均勻涂布一層hmds，降低了hmds處理后的硅片接觸角，降低了光刻膠的用量，提高光刻膠與硅片的黏附性。
更新時(shí)間:2026-01-12
馬弗爐，高溫電阻爐是分析實(shí)驗(yàn)室樣品干法處理，冶金實(shí)驗(yàn)室做熔融實(shí)驗(yàn)，熱處理部門做退火、淬火等實(shí)驗(yàn)，以及其他需要高溫的場(chǎng)合需要的加熱輔助設(shè)備，應(yīng)用廣泛。一體型馬弗爐是新研制生產(chǎn)的產(chǎn)品，該產(chǎn)品將爐體與控制部分做了整合，大的降低了所占空間面積。
更新時(shí)間:2026-01-12
芯片高溫?zé)Y(jié)箱，500℃高溫烤箱廣泛應(yīng)用于電子、電機(jī)、通訊、電鍍、塑料、五金化工、食品、印刷、制藥、pc板、粉體、含浸、噴涂、玻璃、陶瓷、木器建材.可供生產(chǎn)廠家和科研單位做三氟乙烯、四氟乙烯、pe等壓縮成型制品的燒結(jié)
更新時(shí)間:2026-01-12
hmds預(yù)處理系統(tǒng)(js-hmds90 )將hmds氣相沉積至半導(dǎo)體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃、藍(lán)寶石、晶圓等材料表面后，經(jīng)系統(tǒng)加溫可反應(yīng)生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷?，其疏水基可很好地與光刻膠結(jié)合，起著偶聯(lián)劑的作用。
更新時(shí)間:2026-01-12
六箱體氮?dú)夂嫦洌鄠}式潔凈烘箱于光刻膠固化、堅(jiān)膜烘烤、治具干燥、芯片封裝、碳化硅襯底生產(chǎn)、外延片烘烤、墨點(diǎn)烘干的特殊工藝要求，適用于觸摸屏、晶圓、led、pcb板、ito玻璃等精密電子、太陽能
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硅片潔凈烘箱，半導(dǎo)體百級(jí)潔凈烤箱用于半導(dǎo)體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃等材料涂膠前的預(yù)處理烘烤、涂膠后堅(jiān)膜烘烤和顯影后的高溫烘烤；也適用于電子液晶顯示、lcd、cmos、is、醫(yī)藥、實(shí)驗(yàn)室等生產(chǎn)及科研部門；也可用于非揮發(fā)性及非易燃易爆物品的干燥、熱處理、老化等其他高溫試驗(yàn)。
更新時(shí)間:2026-01-12
電線電纜專用老化箱，gb/t 2951老化試驗(yàn)機(jī)主要適用于電線、電纜、塑料、橡膠等行業(yè)作自然通風(fēng)熱老化試驗(yàn)，也可用于工礦企業(yè)、科研單位、大專院校等實(shí)驗(yàn)室作烘焙、高溫試驗(yàn),符合gb/t 2951.12電纜和光纜絕緣和護(hù)套材料通用試驗(yàn)方法。
更新時(shí)間:2026-01-12
六甲基二硅氮烷(hmds)表面處理設(shè)備的工藝是勻膠襯底“增附”處理。容積大?。?50*350*350/450*450*450
更新時(shí)間:2026-01-12
潔凈充氮烘箱，無塵室充氮烤箱是一種提供高溫凈化環(huán)境的特殊潔凈烘干設(shè)備。充氮烤箱可滿足電子電器、醫(yī)藥、實(shí)驗(yàn)室等生產(chǎn)及科研部門中凈化干燥。特殊要求溫度可達(dá)350℃-400℃并且可加裝氮?dú)膺M(jìn)出口。
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電線電纜真空干燥箱用于電線電纜絕緣吸水試驗(yàn)，符合gb/t2951.13-2008等標(biāo)準(zhǔn)的要求
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有降溫功能真空烘箱，300度可降溫真空烤箱用于鍵合預(yù)處理，晶圓，芯片，電容，電池，封裝，光刻膠固化，pi固化等
更新時(shí)間:2026-01-12
hmds涂膠烤箱，mes接口hmds涂布機(jī)的主要作用是對(duì)晶圓做表面處理，以增加光阻在晶圓表面的附著力。當(dāng)晶圓送到黃光區(qū)時(shí)，表面可能有含水層，高溫烘烤后去除水氣，同時(shí)經(jīng)過hmds制程改變晶圓表面從極性到非極性，將晶圓表面的表面能被調(diào)整到與光阻表面相當(dāng)?shù)某潭?，從而使光阻可以很好的附著在晶圓表面。
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secs/gem協(xié)議無塵烘箱，無塵烤箱用于半導(dǎo)體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃等材料涂膠前的預(yù)處理烘烤、涂膠后堅(jiān)膜烘烤和顯影后的高溫烘烤；設(shè)備可以使用tcp / ip（使用hsms標(biāo)準(zhǔn)，semi e37）或基于rs-232的協(xié)議與支持gem的主機(jī)進(jìn)行通信通常這兩種協(xié)議都受支持。每臺(tái)設(shè)備都可以使用由gem指定的通用secs-ii消息進(jìn)行監(jiān)控和控制。
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無氧烘箱，無氧烤箱氧濃度儀應(yīng)用于精密電子元件、pi、bcb、lcp固化烘烤、光刻膠固化、電子陶瓷材料烘干的特殊工藝要求，模擬線性升降溫環(huán)境，特別適合半導(dǎo)體制造、cob封裝、醫(yī)療衛(wèi)生、柔性線路板印刷、精密模具煺火等行業(yè)的無氧化干燥烘烤工藝要求
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無氧烘箱，光刻膠固化烘箱用于精密電子元件、pi膠固化烘烤、bcb固化，光刻膠固化、lcp液晶聚合物熱處理、電子陶瓷材料烘干的特殊工藝要求，
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流水線式干燥烘箱，非標(biāo)隧道烘箱定做是連續(xù)式烘干設(shè)備，可持續(xù)不間斷地烘烤，提高產(chǎn)品生產(chǎn)效率，應(yīng)用于輕工，電子，食品，化工，木業(yè)，機(jī)械等行業(yè)。
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雙門氮?dú)夂嫦涠ㄖ?，可充氮熱風(fēng)循環(huán)烘箱箱體材料：外箱采用優(yōu)質(zhì)冷軋板烤漆；內(nèi)室材料：采用sus304＃無磁性鏡面不銹鋼；
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高溫真空無氧烤箱js-gyzf040,雋思無氧烘箱用于pi/bcb/lcp/pbo光刻膠固化、厭氧烘烤、mems生產(chǎn)、高溫退火等工藝，適用于半導(dǎo)體、電子、新材料等研發(fā)，生產(chǎn)。常用于科研單位，高校實(shí)驗(yàn)室，工廠生產(chǎn)線等場(chǎng)所。
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墨點(diǎn)烘箱，墨點(diǎn)氮?dú)夂嫦湓谛酒瓿蛇^程工藝及測(cè)試后，將硅片放入物理墨點(diǎn)的設(shè)備，輸入用程序，對(duì)一顆非完整芯粒進(jìn)行打墨點(diǎn)工藝，待打點(diǎn)完成后，將硅片放入烘箱進(jìn)行墨點(diǎn)烘干操作。
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真空無氧烘箱是一種提供高溫、低氧、潔凈環(huán)境的特殊制程設(shè)備。烘箱內(nèi)部為不銹鋼結(jié)構(gòu)，全部采用無塵材料，箱內(nèi)可充氮、真空，使烘箱工作室內(nèi)處于低氧、潔凈狀態(tài)。工作室內(nèi)溫度由溫控儀自動(dòng)控制，并有自動(dòng)恒溫及時(shí)間控制裝置，曲線升溫、恒溫、快速降溫。并附設(shè)有超溫?cái)嚅_加熱、氧含量檢測(cè)、輔助降溫裝置及報(bào)警電路，控制可靠，使用安全。
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熱風(fēng)真空烘箱，真空+鼓風(fēng)一體烘箱主要用于bcb固化、pi固化、其他光刻膠固化、lcp熱處理等工藝
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抽屜烘箱，抽拉層式烘箱用于半導(dǎo)體、電子行業(yè)、軌道交通、汽車零部件、航空航天，工礦企業(yè)、大專院校、生物制藥、科研、醫(yī)療單位及各類實(shí)驗(yàn)室等作非易燃易爆物品及非揮發(fā)性物品的干燥、烘培、熔臘、滅菌之用。
更新時(shí)間:2026-01-12
潔凈無氧烘箱，氮?dú)鉄o氧 烘箱聚酰亞胺作為鈍化層和緩沖保護(hù)層在微電子工業(yè)上應(yīng)用非常廣泛。pi 涂層可有效地阻滯電子遷移、防止腐蝕。pi 層保護(hù)的元器件具有很低的漏電流，可增加器件的機(jī)械性能，防止化學(xué)腐蝕，也可有效地增加元器件的抗潮濕能力。pi 薄膜具有緩沖功能，可有效地降低由于熱應(yīng)力引起的電路崩裂斷路，減少元器件在后續(xù)的加工、封裝和后處理過程中的損傷；
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硅片百級(jí)潔凈烤箱，高溫潔凈烘箱采用單面水平由后向前送風(fēng)熱風(fēng)循環(huán)系統(tǒng)，風(fēng)源由循環(huán)馬達(dá)運(yùn)轉(zhuǎn)帶動(dòng)風(fēng)輪經(jīng)電熱器，將熱風(fēng)由風(fēng)道送至烤箱內(nèi)部，且將使用后空氣吸入風(fēng)道成為風(fēng)源再度循環(huán)加熱，省電節(jié)能溫度均勻性好，過濾效率99.99%，class 100；
更新時(shí)間:2026-01-12
智能型hmds真空系統(tǒng)（js-hmds90-ai）將hmds氣相沉積至半導(dǎo)體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃、藍(lán)寶石、晶圓等材料表面后，經(jīng)系統(tǒng)加溫可反應(yīng)生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷?，其疏水基可很好地與光刻膠結(jié)合，起著偶聯(lián)劑的作用。
更新時(shí)間:2026-01-12
無塵烘箱，class 100潔凈烘箱，無塵高溫烤箱用于半導(dǎo)體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃等材料涂膠前的預(yù)處理烘烤、涂膠后堅(jiān)膜烘烤和顯影后的高溫烘烤；也適用于電子液晶顯示、lcd、led、cmos、is、醫(yī)藥、實(shí)驗(yàn)室等生產(chǎn)及科研部門；也可用于非揮發(fā)性及非易燃易爆物品的干燥、熱處理、老化等其他高溫試驗(yàn)。
更新時(shí)間:2026-01-12
不銹鋼無塵烤箱，雙層無塵烘箱應(yīng)用于目關(guān)鍵的半導(dǎo)體電子行業(yè)（如硅片干燥，堅(jiān)膜烘烤，裝片機(jī)后道烘烤，塑封后烘烤，治具烘烤等），另外，雙層無塵烘箱還在led制造行業(yè)中用于烘烤玻璃基板、無機(jī)材料行業(yè)中用于材料高精度工序。
更新時(shí)間:2026-01-12
hmds黏附機(jī) 光刻膠hmds烘箱 hmds疏水處理烘箱應(yīng)用多晶硅，石英，太陽能電池片、金屬、貴金屬、藍(lán)寶石、sic(碳化硅)、磷化銦、gan(氮化鎵)、zno（氧化鋅）、gao（氧化鎵）、金剛石等第三代半導(dǎo)體材料。
更新時(shí)間:2026-01-12
該工業(yè)烘烤箱是一種新型可營(yíng)造無氧潔凈恒溫環(huán)境的電熱鼓風(fēng)烘箱箱,在加溫工作的同時(shí)充入氮?dú)?適用高溫易氧化產(chǎn)品的烘烤加熱。
更新時(shí)間:2026-01-12
hmds烘箱真空泵，hmds系統(tǒng)用油泵 在半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝中，光刻是集成電路圖形轉(zhuǎn)移重要的一個(gè)工藝環(huán)節(jié)，涂膠質(zhì)量直接影響到光刻的質(zhì)量，涂膠工藝也顯得尤為重要。增黏劑hmds(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善這種狀況。將hmds涂到硅片表面后，經(jīng)烘箱加溫可反應(yīng)生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷涫杷珊芎玫嘏c光刻膠結(jié)合，起著偶聯(lián)劑的作用。
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芯片高溫?zé)Y(jié)箱，500℃高溫烤箱廣泛應(yīng)用于電子、電機(jī)、通訊、電鍍、塑料、五金化工、食品、印刷、制藥、pc板、粉體、含浸、噴涂、玻璃、陶瓷、木器建材.可供生產(chǎn)廠家和科研單位做三氟乙烯、四氟乙烯、pe等壓縮成型制品的燒結(jié)
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為了獲得良好的聚酰亞胺性能，非常好的溫度均勻性，低氧含量和低顆粒數(shù)是非常重要的。無塵烤箱,非光敏型聚酰亞胺樹脂（pi）烤箱腔內(nèi)的氣體保持相當(dāng)干凈（100級(jí)），良好的溫度均勻性。通過氮?dú)獯祾呖蓪⒀鯕夂拷档椭?0ppm以下。這保證了非光敏聚酰亞胺的優(yōu)異工藝結(jié)果。
更新時(shí)間:2026-01-12
烘可在熱烘板或氮?dú)夂嫦渲羞M(jìn)行,本課題采用的熱風(fēng)烘箱為雋思氮?dú)鉂崈艉嫦?，由于在鼓風(fēng)烘箱中對(duì)流烘烤將會(huì)使烘進(jìn)行的更加均勻，所以在鼓風(fēng)箱中烘的效果將會(huì)更理想。
更新時(shí)間:2026-01-12
js-hmds90烘箱采用真空蒸鍍的方法涂布hmds化合物。hmds烘箱在高溫條件下，達(dá)到真空狀態(tài)后開始涂布工藝，涂布完成后烘箱內(nèi)部充入n2，達(dá)到常壓后方可開門。
更新時(shí)間:2026-01-12
hmds增粘劑烘箱即hmds(六甲基二硅烷)增粘劑氣相涂布，涂膠工藝的配置機(jī)臺(tái)。該設(shè)備結(jié)合了有效的真空烘烤和蒸汽氣相涂布應(yīng)用方法。在使用同一腔室過程的過程，為脫水和蒸汽灌注創(chuàng)造了一個(gè)加熱的真空環(huán)境，大大降低了晶片再水化或污染的風(fēng)險(xiǎn)。同時(shí)，提高了安全性，具有更好的安全保障。
更新時(shí)間:2026-01-12
箱體結(jié)構(gòu): 內(nèi)箱采用sus304/316l不銹鋼制作,以全周氬弧焊無縫處理; 外箱采用優(yōu)質(zhì)不銹鋼或冷軋板靜電噴塑處理; 外箱保溫材質(zhì)用高超細(xì)陶瓷纖維保溫,六面保溫?cái)酂?達(dá)到降低機(jī)臺(tái)表面溫度的目的。
更新時(shí)間:2026-01-12
bcb作為一類高性能聚合物，以它特有的性質(zhì)，將會(huì)被越來越多地使用。bcb是具有優(yōu)良的熱穩(wěn)定性、化學(xué)穩(wěn)定性、電絕緣性和機(jī)械強(qiáng)度的高性能材料。在現(xiàn)代高技術(shù)域有非常重要的應(yīng)用。例如在微電子制造中，用作各類器件鈍化防護(hù)和層間介電等。
更新時(shí)間:2026-01-12
js-hmds90烘箱采用真空蒸鍍的方法涂布hmds化合物。hmds烘箱在高溫條件下，達(dá)到真空狀態(tài)后開始涂布工藝，涂布完成后烘箱內(nèi)部充入n2，達(dá)到常壓后方可開門。
更新時(shí)間:2026-01-12
碳化硅hmds烘箱，sic襯底hmds烤箱成功地將硅片等襯底表面由親水變?yōu)槭杷涫杷珊芎玫嘏c光刻膠結(jié)合，起著偶聯(lián)劑的作用。
更新時(shí)間:2026-01-12
oap烘箱，oap處理烘箱處理主要是為了改善親水性表面，變?yōu)槭杷?，從而達(dá)到增加光刻膠粘附性的作用。
更新時(shí)間:2026-01-12
lcp熱處理烘箱，lcp纖維氮?dú)夂嫦涫菍⒁壕Ь酆衔?lcp)當(dāng)加熱到足夠高的溫度，lcp熔融形成液晶熔融相(經(jīng)常叫做“各向異性相”)而不是各向同性熔融相。
更新時(shí)間:2026-01-12
馬弗爐，高溫電阻爐是分析實(shí)驗(yàn)室樣品干法處理，冶金實(shí)驗(yàn)室做熔融實(shí)驗(yàn)，熱處理部門做退火、淬火等實(shí)驗(yàn)，以及其他需要高溫的場(chǎng)合需要的加熱輔助設(shè)備，應(yīng)用廣泛。一體型馬弗爐是新研制生產(chǎn)的產(chǎn)品，該產(chǎn)品將爐體與控制部分做了整合，大的降低了所占空間面積。
更新時(shí)間:2026-01-12
箱式電阻爐，高溫馬弗爐為周期作業(yè)式電爐，可供工礦企業(yè)、科研等單位實(shí)驗(yàn)室作化學(xué)分析、物理測(cè)定和一般小型鋼件熱處理時(shí)加熱之用。
更新時(shí)間:2026-01-12
hmds預(yù)處理系統(tǒng)(js-hmds90 )將hmds氣相沉積至半導(dǎo)體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃、藍(lán)寶石、晶圓等材料表面后，經(jīng)系統(tǒng)加溫可反應(yīng)生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷?，其疏水基可很好地與光刻膠結(jié)合，起著偶聯(lián)劑的作用。
更新時(shí)間:2026-01-12
應(yīng)用于精密電子元件、pi、bcb膠高溫固化烘烤、銀膠固化、光刻膠固化、電子陶瓷材料無塵烘干的特殊工藝要求，適用于觸摸屏、晶圓、led、pcb板、ito玻璃等精密電子、太陽能、新材料等行業(yè).
更新時(shí)間:2026-01-12
最新產(chǎn)品
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