RXM4AB1BD 4 6A DC24V
RXM4AB1E7 4 6A AC48V
RXM4AB1ED 4 6A DC48V
RXM4AB1F7 4 6A AC120V
RXM4AB1FD 4 6A DC110V
RXM4AB1JD 4 6A DC12V
RXM4AB1MD 4 6A DC220V
RXM4AB1P7 4 6A AC230V
RXM4AB1U7 4 6A AC240V
RXM4AB2B7 4 6A AC24V
RXM4AB2BD 4 6A DC24V
RXM4AB2E7 4 6A AC48V
RXM4AB2ED 4 6A DC48V
RXM4AB2F7 4 6A AC120V
RXM4AB2FD 4 6A DC110V
RXM4AB2GD 4 6A DC125V
RXM4AB2JD 4 6A DC12V
RXM4AB2P7 4 6A AC230V
RXM4GB1B7 4 3A AC24V
RXM4GB1BD 4 3A DC24V
RXM4GB1E7 4 3A AC48V
南京泉林電氣自動(dòng)化有限公司是集貿(mào)易、技術(shù)、服務(wù)于一體的電氣專(zhuān)業(yè)性經(jīng)營(yíng)公司,擁有西門(mén)子、施耐德、ABB、AB、富士、松下、正泰等公司的銷(xiāo)售代理權(quán)。公司以靈活的經(jīng)營(yíng)方式,一流的服務(wù),高新名優(yōu)產(chǎn)品去開(kāi)拓市場(chǎng),占領(lǐng)市場(chǎng),博得用戶(hù)的青睞和信賴(lài)。在江蘇、安徽、山東等省擁有穩(wěn)定的客戶(hù)群及合作伙伴。
公司廣泛服務(wù)于建材、電力、機(jī)械、冶金、紡織、建筑、化工、等行業(yè)。長(zhǎng)期致力于工業(yè)自動(dòng)化控制系統(tǒng),工業(yè)電器的推廣和應(yīng)用,在本行業(yè)中有20多年的營(yíng)銷(xiāo)經(jīng)驗(yàn),取得了名牌廠家及世界著名公司的授權(quán)代理經(jīng)銷(xiāo):
德國(guó)西門(mén)子SIEMENS 法國(guó)施耐德Schneider 霍尼韋爾HONEYWELL
瑞士ABB 日本三菱MITSUBISHI 日本富士FUJI
日本歐姆龍OMRON菲尼克斯PHOENIX
德國(guó)施邁賽SCHMERSAL 倍加福P+F 正泰電氣CHINT 德國(guó)圖爾克TURCK 美國(guó)A-B 德國(guó)E+H
施克SICK 日本內(nèi)密控NEMICON
經(jīng)銷(xiāo)產(chǎn)品:
可編程控制器(PLC) 低壓產(chǎn)品及配電產(chǎn)品 自控器件與傳感器件
變頻調(diào)速電機(jī)傳動(dòng) 開(kāi)關(guān)電源 液壓傳動(dòng)
建筑電氣 軸承 編碼器
儀器儀表 觸摸屏 工業(yè)連接器接插件
電線電纜 中低壓配電柜 工業(yè)鏈條
產(chǎn)品圖片 |
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產(chǎn)品簡(jiǎn)介 |
PSD-L智能導(dǎo)壓液位變送器,選用智能型PSD壓力變送器為壓力測(cè)量部件,由集氣筒采集到液位壓力信號(hào),傳送給壓力變送器,將壓力信號(hào)轉(zhuǎn)換為液位信號(hào)輸出。 壓力變送器與液位關(guān)系為: P=0.0098ρH+Pc 式中:P 壓強(qiáng)MPa; ρ 液體密度(g/cm3);H 液面深度(m);Pc 液面壓力(常壓為0) |
技術(shù)參數(shù) |
電 壓:24V DC 輸出信號(hào):4~20mA DC 精 度:0.5﹪ 測(cè)量范圍:0~20m 顯 示:4位LCD顯示 環(huán)境溫度:-30~+70℃ 法蘭安裝:DN80 PN1.0Mp 支架安裝:Ф60管路安裝 防爆標(biāo)志:ib II BT5 Gb 工作溫度:-30~300℃ |
產(chǎn)品選型表 | ||||||||||||||||||||||||||||
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安裝示意圖 |
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公司位置 |
我所在位置(遼陽(yáng)自控儀表有限公司)
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公司簡(jiǎn)介 |
遼陽(yáng)自控儀表有限公司『曾用名:遼陽(yáng)市文星自控儀表有限公司』始建于一九八九年,占地面積5000平方米,地處古城遼陽(yáng)。 遼陽(yáng)自控儀表有限公司是中國(guó)石油天然氣(集團(tuán))總公司、中國(guó)石油化工總公司定點(diǎn)生產(chǎn)企業(yè),是物位儀表和防爆電器專(zhuān)業(yè)制造商。公司技術(shù)力量雄厚,設(shè)備精良,檢測(cè)手段齊全,員工素質(zhì)高,擅長(zhǎng)設(shè)計(jì)、研制和生產(chǎn)新型特殊液位測(cè)量?jī)x表。其中工程師15人、助理工程師8人、技工12人。公司在全國(guó)各大石油化工設(shè)計(jì)院的幫組及合作下,吸取國(guó)內(nèi)外技術(shù),研制和開(kāi)發(fā)了許多高質(zhì)量、高精度、高科技的新產(chǎn)品,并取得了豐碩的成果;公司順利通過(guò)了ISO9001:2008質(zhì)量體系認(rèn)證,且于2009年根據(jù)《商標(biāo)法》成功注冊(cè)了中文名為“文貝”(英文名:WENBEI)的產(chǎn)品商標(biāo),成為行業(yè)的標(biāo)志性品牌。 公司主要生產(chǎn)智能浮筒液位變送器、智能浮球液位變送器、磁浮子(翻板)液位計(jì)、浮球液位開(kāi)關(guān)、電極點(diǎn)液位開(kāi)關(guān)、玻璃板(管)液位計(jì)、智能溫度開(kāi)關(guān)、智能壓力開(kāi)關(guān)、智能雙色電極點(diǎn)水位計(jì)、重錘料位計(jì)、超聲波物位變送器、智能渦街流量計(jì)、射頻導(dǎo)納物位變送器、(智能)溫度變送器、射頻導(dǎo)納物位開(kāi)關(guān)、浮子液位開(kāi)關(guān)、(智能)壓力變送器、(智能)差壓變送器等各種防爆電器60種,系列產(chǎn)品500多個(gè)規(guī)格,產(chǎn)品廣泛應(yīng)用在石油、化工、焦化、輕紡、冶金、食品等工業(yè)部門(mén),贏得了良好的質(zhì)量信譽(yù),并建立了穩(wěn)定的合作關(guān)系。 本公司將以的技術(shù)、的質(zhì)量、的產(chǎn)品、的服務(wù)滿(mǎn)足顧客的要求和期望。 我們?cè)附Y(jié)交各界有識(shí)之士,共同努力建設(shè)美好的未來(lái)。 |
本儀器應(yīng)用濾膜稱(chēng)重法捕集環(huán)境大氣中的總懸浮微粒(TSP)或可吸入微粒(PM10)(可選)或細(xì)顆粒物(PM2.5)(可選)。可供環(huán)保、衛(wèi)生、勞動(dòng)、安監(jiān)、軍事、科研、教育等部門(mén)用于氣溶膠常規(guī)監(jiān)測(cè)。二、XY2200K中流量智能TSP采樣器采用標(biāo)準(zhǔn)JJG 943-2011 《總懸浮顆粒物采樣器》HJ/T 374-2007 《總懸浮顆粒物采樣器技術(shù)要求及檢測(cè)方法》HJ 618-2011 《環(huán)境空氣PM10和PM2.5的測(cè)定 重量法》HJ/T 93-2013 《環(huán)境空氣顆粒物(PM10和PM2.5)采樣器技術(shù)要求及檢測(cè)方法》三、XY2200K中流量智能TSP采樣器產(chǎn)品特點(diǎn)獨(dú)有的電磁兼容防干擾設(shè)計(jì)采樣頭采用鋁合金材質(zhì),抗靜電吸附大尺寸中文點(diǎn)陣式液晶顯示屏, 隨溫度不同,自動(dòng)調(diào)節(jié)液晶顯示屏對(duì)比度;采樣流量自動(dòng)控制;可設(shè)置定時(shí)采樣,等間隔多次采樣;故障自動(dòng)保護(hù)功能;自動(dòng)計(jì)算采樣體積; 重量輕,攜帶方便;采樣過(guò)程中停電,來(lái)電自動(dòng)恢復(fù)采樣;軟件標(biāo)定、密碼保護(hù)功能;采樣數(shù)據(jù)自動(dòng)記憶;具有實(shí)時(shí)時(shí)鐘;測(cè)量大氣壓;高效的噪音消除功能,實(shí)現(xiàn)超低噪音運(yùn)行;可選配PM10或PM2.5切割器,可采集PM10或PM2.5有直流電源接口,可選配外接便攜式鋰離子交直流電源,進(jìn)行野外采樣;四、技術(shù)指標(biāo)
主要參數(shù) | 參數(shù)范圍 | 分辨率 | 準(zhǔn)確度 |
采樣流量 | (60~130)L/min | 0.1L/min | 優(yōu)于±2.5% |
采樣時(shí)間 | 1min~99小時(shí)59分內(nèi)任意設(shè)置 | 1min | 優(yōu)于±0.2% |
間隔時(shí)間 | 1min~99小時(shí)59分內(nèi)任意設(shè)置 | 1min | 優(yōu)于±0.2% |
采樣次數(shù) | 1~99 | — | — |
計(jì)前溫度 | (-30~99)℃ | 0.1℃ | 優(yōu)于±2.5℃ |
計(jì)前壓力 | (-20~0)kPa | 0.01kPa | 優(yōu)于±2.5% |
大 氣 壓 | (70~130)kPa | 0.01kPa | 優(yōu)于±2.5% |
工作電源 | AC220V±10%,50Hz 可選配旭宇便攜式鋰離子交直流電源 | ||
功 耗 | <100W | ||
采樣頭指標(biāo) | |||
PM2.5切割特性 | Da50=(2.5±0.2)μm δg=(1.2±0.1)μm | ||
PM10切割特性 | Da50=(10±0.5)μm δg=(1.5±0.1)μm | ||
入口速度 | 0.3m/s | ||
b/a | 0.625 | ||
采樣流量及穩(wěn)定度 | 100Lmin ≤±5% | ||
有效濾膜直徑 | Φ80mm |
青島旭宇環(huán)?萍加邢薰局饕a(chǎn)水質(zhì)檢測(cè)儀、BOD\COD消解測(cè)定儀、紅外測(cè)油儀、培養(yǎng)箱、環(huán)境顆粒物大氣及粉塵采樣器、煙塵煙氣粉塵檢測(cè)儀以及各種氣體分析儀等多種環(huán)境環(huán)保儀器。并代理羅威邦、哈希、美國(guó)維賽 、美國(guó)華瑞、德國(guó)德?tīng)柛、美?guó)梅思安、加拿大BW、日本理研等多種國(guó)外品牌。資質(zhì)深厚,專(zhuān)業(yè)度高,在同品牌中一直處于領(lǐng)先地位!質(zhì)量保證,歡迎咨詢(xún)洽談公司地址:山東省青島市嶗山區(qū)科苑緯三路19號(hào)先鋒創(chuàng)業(yè)園12層手機(jī):13375427882 固話: QQ:2851708569
![]() ![]() | Designed for circuits with high power requirements. The VL connectors can be used for wire-to-wire or wire-to-board connections. *The inter-housing lock secures the plug to the receptacle and prevents accidental disconnection. *Secondary retainers(optional) | ||||||||
Product Profile | |||||||||
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Specification | |||||||||
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西班牙Zigor工業(yè)用UPS iUPS 99
每刻生產(chǎn),都來(lái)自于iUPS 99短暫斷電保護(hù)的創(chuàng)新。
iUPS 99主要應(yīng)用于保證工業(yè)生產(chǎn)過(guò)程或者商業(yè)活動(dòng)中供電的連續(xù)性,為電壓暫降、電壓暫升和短暫的電力中斷等電力困擾障設(shè)備用電,避免停機(jī)損失。
在些對(duì)于電壓擾動(dòng)和短暫斷電比較靈敏的設(shè)備上,供電系統(tǒng)發(fā)生的短暫斷電,就會(huì)造成設(shè)備故障、產(chǎn)品問(wèn)題或者生產(chǎn)線停機(jī),造成經(jīng)濟(jì)損失。西班牙西Zigor西格公司推出的iUPS 99斷電保護(hù)系統(tǒng)主要應(yīng)用于保證工業(yè)生產(chǎn)過(guò)程或者商業(yè)活動(dòng)中供電的連續(xù)性,為減少電壓暫降、電壓暫升和短暫的電力中斷等電力困擾而設(shè)計(jì),可靠地且經(jīng)濟(jì)地保障設(shè)備用電,使下游負(fù)載在短時(shí)斷電或電壓暫降時(shí)保持運(yùn)行,避免停機(jī)損失。
工作原理
iUPS 99作為工業(yè)型不間斷電源系統(tǒng),實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)分析輸入電源信號(hào),當(dāng)電力供應(yīng)正常時(shí),靜態(tài)旁路開(kāi)關(guān)導(dǎo)通,由市電直接給負(fù)載供電。主回路中無(wú)整流逆變?cè)骷,供電可靠性高、運(yùn)行效率高。旦電壓偏離設(shè)定值,iUPS 99系統(tǒng)便發(fā)出指令截止靜態(tài)旁路開(kāi)關(guān),并啟動(dòng)逆變器。此時(shí),電池通過(guò)逆變器給負(fù)載供電。電源切換時(shí)間不超過(guò)5毫。逆變器僅在出現(xiàn)電網(wǎng)擾動(dòng)時(shí)投入運(yùn)作,很大程度地提高系統(tǒng)可靠性和性能。iUPS 99具有可選手動(dòng)旁路開(kāi)關(guān),可不切斷負(fù)載電力供應(yīng)而進(jìn)行維護(hù)工作。
·離線式設(shè)計(jì),主回路只有個(gè)靜態(tài)開(kāi)關(guān),無(wú)整流器和逆變器,大大提高了系統(tǒng)使用壽命。
·主回路輸入側(cè)不產(chǎn)生諧波畸變反饋到配電系統(tǒng)中,提高配電系統(tǒng)可靠性。
>運(yùn)行效率高達(dá)99%
·主回路無(wú)交-直-交功率轉(zhuǎn)換過(guò)程,在正常供電時(shí)逆變器處于待機(jī)狀態(tài)。機(jī)組系統(tǒng)損耗僅為1%,長(zhǎng)期運(yùn)行可節(jié)省大量電費(fèi),節(jié)能環(huán)保系統(tǒng)。
>免維護(hù)電池,壽命長(zhǎng)達(dá)10年
·iUPS 99采用免維護(hù)電池,基于系統(tǒng)運(yùn)行模式,電池使用率低,壽命長(zhǎng),僅每10年更換次電池。
·先進(jìn)的系統(tǒng)來(lái)管理、控制和診斷電池,延長(zhǎng)了電池使用壽命。
>過(guò)載120%工作
·iUPS 99系統(tǒng)主回路設(shè)計(jì)為100%帶載率,且預(yù)留了很大的過(guò)載能力,120%時(shí)工作。
·旁路按較大規(guī)格尺寸設(shè)計(jì),可承受較標(biāo)稱(chēng)電流強(qiáng)1.5倍的電流10之久,更適用于工業(yè)型沖擊性負(fù)荷的保護(hù)。
>允許與應(yīng)急發(fā)電機(jī)組集成
·iUPS 99主回路不含整流逆變等元器件,不會(huì)引入諧波畸變,故無(wú)需考慮諧振因素,無(wú)需放大發(fā)電機(jī)組容量,節(jié)省投資成本。
上海精能動(dòng)力科技有限公司秉承“可靠周到,增值服務(wù)”的經(jīng)營(yíng)理念,根據(jù)客戶(hù)需求量身定制成本可控的電力綜合解決方案以及相關(guān)高科技系列產(chǎn)品。
精能公司始終致力于提供有價(jià)值的電能質(zhì)量解決方案:從監(jiān)測(cè)入手,對(duì)數(shù)據(jù)進(jìn)行分析,甄選治理方案。針對(duì)電壓暫降、短長(zhǎng)期斷電、諧波無(wú)功超標(biāo)問(wèn)題,精能公司提供綜合治理方案,提交驗(yàn)證報(bào)告并提供技術(shù)服務(wù),遵從“電能質(zhì)量治理”的理念。
精能公司的主要產(chǎn)品線:
l PSL美國(guó)電力標(biāo)準(zhǔn)實(shí)驗(yàn)室中國(guó)區(qū)代理,負(fù)責(zé)中國(guó)區(qū)域內(nèi)PQube電能質(zhì)量分析儀,IPC工業(yè)用電壓暫降發(fā)生器等系列產(chǎn)品銷(xiāo)售和技術(shù)工作
l Zigor西班牙西格公司中國(guó)區(qū)代理,負(fù)責(zé)中國(guó)區(qū)域內(nèi)電壓暫降治理系列產(chǎn)品AVC DVR快速電壓調(diào)節(jié)器以及iUPS99工業(yè)用UPS銷(xiāo)售和技術(shù)工作
l PQSI中國(guó)區(qū)代理,負(fù)責(zé)中國(guó)區(qū)域內(nèi)科雷克線圈低電壓穿越Coil Lock銷(xiāo)售和技術(shù)工作
更多詳細(xì)信息請(qǐng)搜索www.genergy.cn或者關(guān)注微信公眾號(hào):電能質(zhì)量與能源治理
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產(chǎn)品介紹:·CQM1H是一種功能完善的緊湊型PLC,它能用高速、高容量ContrllerLink來(lái)建立分散控制系統(tǒng)。·它還可方便地通過(guò)從中央?yún)^(qū)域收集和共享作數(shù)據(jù)、監(jiān)控每臺(tái)機(jī)械的生產(chǎn)過(guò)程和質(zhì)量數(shù)據(jù)。·它能利用的內(nèi)裝板可靈活地配置系統(tǒng)。·包括高速計(jì)數(shù)器在內(nèi),擁有各種的內(nèi)裝板。·在CPU單元中安裝所要求的內(nèi)裝板就可CQM1H-ABB21CQM1H-AVB41CQM1H-CIF12(Q)CQM1H-CLK21CQM1H-CPU11CQM1H-CPU21CQM1H-CPU51CQM1H-CPU61CQM1H-CTB41CQM1H-IC101CQM1H-II101CQM1H-MAB42CQM1H-ME16KCQM1H-ME16RCQM1H-PLB21CQM1H-PRO01-ECQM1H-SCB41CQM1H-TER01CQM1-IA121CQM1-IA221CQM1-ID111CQM1-ID111CQM1-ID112CQM1-ID112CQM1-ID211CQM1-ID211CQM1-ID212CQM1-ID212CQM1-ID213CQM1-ID214CQM1-ID214CQM1-IPS01CQM1-IPS02CQM1-LK501CQM1-ME04KCQM1-ME04RCQM1-ME08KCQM1-ME08RCQM1-MP08KCQM1-MP08RCQM1-OA221CQM1-OA222CQM1-OC221CQM1-OC222CQM1-OC222CQM1-OC224CQM1-OC224CQM1-OD211CQM1-OD211CQM1-OD212CQM1-OD213CQM1-OD213CQM1-OD214CQM1-OD214CQM1-OD215CQM1-OD216CQM1-PA203CQM1-PA203CQM1-PA206CQM1-PA216CQM1-PD026CQM1-PRO01-ECQM1-PRT21CQM1-SRM21-V1CQM1-TC001CQM1-TC002CQM1-TC101CQM1-TC102CQM1-TC201CQM1-TC202CQM1-TC203CQM1-TC204CQM1-TC301CQM1-TC302CQM1-TC303CQM1-TC304C2000-BI082C2000-BI083C2000-ID216C200H-AD001C200H-AD002C200H-AD003C200H-APS03C200H-ASC02C200H-ASC11C200H-ASC21C200H-ASC31C200H-ATT01C200H-ATT02C200H-ATT03C200H-ATT31C200H-ATT33C200H-ATT51C200H-ATT53C200H-ATT81C200H-ATT83C200H-ATTA1C200H-ATTA3C200H-B7A02C200H-B7A12C200H-B7A21C200H-B7A22C200H-B7AI1C200H-B7AO1C200H-BAT09C200H-BC031-V2C200H-BC051-V2C200H-BC081-V2C200H-BC101-V2C200H-BP001C200H-BP002C200H-CE001C200H-CE002C200H-CN001C200H-CN002C200H-CN111C200H-CN131C200H-CN211C200H-CN221C200H-CN222C200H-CN223C200H-CN225C200H-CN311C200H-CN422C200H-CN425C200H-CN521C200H-CN711C200H-COV02C200H-COV03C200H-COV11C200H-CP114C200H-CT001-V1C200H-CT002C200H-CT021C200H-DA001C200H-DA002C200H-DA003C200H-DA004C200H-DAC01C200H-DIN01C200H-DSC01C200HE-CPU11-EC200HE-CPU11-ZEC200HE-CPU32-EC200HE-CPU32-ZEC200HE-CPU42-EC200HE-CPU42-ZEC200H-ETL01-EC200H-FZ001C200HG-CPU33-EC200HG-CPU33-ZEC200HG-CPU43-EC200HG-CPU43-ZEC200HG-CPU53-EC200HG-CPU53-ZEC200HG-CPU63-EC200HG-CPU63-ZEC200H-IA121C200H-IA122C200H-IA221C200H-IA222C200H-ID001C200H-ID002C200H-ID111C200H-ID111C200H-ID211C200H-ID212C200H-ID212C200H-ID215C200H-ID215C200H-ID216C200H-ID216C200H-ID217C200H-ID217C200H-ID218C200H-ID218C200H-ID219C200H-ID219C200H-ID501C200H-ID501C200H-IDS01-V1C200H-IM211C200H-IM212C200H-IM212C200H-IP006C200H-IP007C200H-KS01EC200H-KS01FC200H-KS01GC200H-KS01IC200H-KS01SC200H-LK101-PV1C200H-LK201-V1C200H-LK202-V1C200H-LK401C200H-MAD01C200H-MC221C200H-MD115C200H-MD115C200H-MD215C200H-MD215C200H-MD501C200H-MD501C200H-ME431C200H-ME432C200H-ME831C200H-ME832C200H-MP831C200H-MR431C200H-MR432C200H-MR433C200H-MR831C200H-MR832C200H-MR833C200H-NC111C200H-NC112C200H-NC211C200H-OA122-EC200H-OA222VC200H-OA223C200H-OA224C200H-OC221C200H-OC222C200H-OC223C200H-OC224C200H-OC225C200H-OD211C200H-OD212C200H-OD212C200H-OD213C200H-OD214C200H-OD215C200H-OD215C200H-OD216C200H-OD217C200H-OD218C200H-OD218C200H-OD219C200H-OD219C200H-OD21AC200H-OD21AC200H-OD411C200H-OD501C200H-OD501C200H-PAR-EPTC210BC200H-PAR-MRK1031GC200H-PAR-PTC219C200H-PID01C200H-PID02C200H-PID03C200H-PRO27-EC200H-PS211C200H-PS221C200H-PS221-CC200H-RM001-PV1C200H-RM201C200H-RT001-PC200H-RT002-PC200H-RT201C200H-RT201-CC200H-RT202C200HS-CN222C200HS-CN422C200HS-INT01C200HS-ME16KC200HS-MP16KC200H-SP001C200H-TC001C200H-TC002C200H-TC003C200H-TC101C200H-TC102C200H-TC103C200H-TL001C200H-TM001C200H-TS001C200H-TS002C200H-TS101C200H-TS102C200H-TV001C200H-TV002C200H-TV003C200H-TV101C200H-TV102C200H-TV103C200HW-AB001C200HW-ASCST-CV2C200HW-ATT32C200HW-ATT33C200HW-ATT34C200HW-ATT52C200HW-ATT53C200HW-ATT54C200HW-ATT82C200HW-ATT83C200HW-ATT84C200HW-ATTA2C200HW-ATTA3C200HW-ATTA4C200HW-BC031C200HW-BC031C200HW-BC051C200HW-BC051C200HW-BC081-V1C200HW-BC081-V1C200HW-BC101-V1C200HW-BC101-V1C200HW-BI031C200HW-BI031C200HW-BI051C200HW-BI051C200HW-BI081-V1C200HW-BI081-V1C200HW-BI101-V1C200HW-BI101-V1C200HW-CE001C200HW-CE002C200HW-CE011C200HW-CE012C200HW-CLK21C200HW-COM01C200HW-COM02-V1C200HW-COM03-V1C200HW-COM04-EV1C200HW-COM05-EV1C200HW-COM06-EV1C200HW-DRM21-V1C200HW-DRT21C200HW-MC402-EC200HW-MC402-EC200HW-ME04KC200HW-ME08KC200HW-ME16KC200HW-ME32KC200HW-ME64KC200HW-NC113C200HW-NC213C200HW-NC213-LDC200HW-NC413C200HW-PA204C200HW-PA204CC200HW-PA204RC200HW-PA204SC200HW-PA209RC200HW-PCU01C200HW-PD024C200HW-PD025C200HW-PRM21C200HW-PRT21C200HW-SLK13C200HW-SLK14C200HW-SLK23C200HW-SLK24C200HW-SRM21-V1C200HW-ZW3AT2-EV2C200HX/C200HG/C200HE 編程手冊(cè)C200HX-CPU34-EC200HX-CPU34-ZEC200HX-CPU44-EC200HX-CPU44-ZEC200HX-CPU54-EC200HX-CPU54-ZEC200HX-CPU64-EC200HX-CPU64-ZEC200HX-CPU65-ZEC200HX-CPU85-ZEC200PC-CN221C200PC-EXP01C200PC-ISA03-DRM-EC200PC-ISA03-EC200PC-ISA03-SRM-EC200PC-ISA13-DRM-EC200PC-ISA13-SRM-EC200PC-PD024C500-AD001C500-AD002C500-AD003C500-AD004C500-AD005C500-AD006C500-AD007C500-AD101C500-AD501C500-AE001C500-AP003C500-ASC04C500-ATT01C500-ATT05C500-BAT08C500-BAT10C500-BI051C500-BI081C500-BL031C500-BP001C500-CCG01C500-CE241C500-CE242C500-CE243C500-CE401C500-CE402C500-CE403C500-CE404C500-CE405C500-CN122NC500-CN124C500-CN221C500-CN222NC500-CN312NC500-CN422C500-CN512NC500-CN523C500-CN812NC500-COV01C500-COV02C500-COV03C500-COV11C500-COV12C500-COV13C500-CT001C500-CT012C500-CT021C500-CT041C500-DA001C500-DA002C500-DA003C500-DA004C500-DA005C500-DA101C500-DA103C500-DA501C500-DUM01C500-ETL01C500-FZ001C500-IA121C500-IA122C500-IA222C500-IA223C500-ID112C500-ID114C500-ID212C500-ID213C500-ID215C500-ID218C500-ID218CNC500-ID219C500-ID501CNC500-IDA02C500-IDS01-V2C500-IDS02-V1C500-II002C500-II101C500-IM211C500-IM212C500-LDP01-V1C500-LK009-V1C500-MCD01C500-MD211CNC500-NC111-V1C500-NC112C500-NC113C500-NC211C500-NC222-EC500-OA225C500-OA226C500-OC221C500-OC223C500-OC224C500-OC224-EC500-OD211C500-OD212C500-OD213C500-OD215C500-OD217C500-OD218C500-OD219C500-OD411C500-OD412C500-OD414C500-OD415CNC500-OD501CNC500-PAR-PTC38C500-PRW06C500-PS213-EC500-RM201C500-RT201C500-SP001C500-SP002C500-SU981-EC500-ZL3AT1-CC500-ZL3AT1-EC500-ZL3DV1C500-ZL3PC1
用于反應(yīng)離子刻蝕(RIE)及等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積 (PEVCD)的等離子處理系統(tǒng)。
BM8-II是一款定義反應(yīng)離子刻蝕(RIE)及等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積 (PEVCD)等離子處理新概念的等離子處理系統(tǒng)。
BM8-II反應(yīng)離子刻蝕(RIE)/沉積(PEVCD)等離子處理系統(tǒng)基于模塊化設(shè)計(jì)制造,采用一款通用的真空處理艙及機(jī)柜。等離子處理系統(tǒng)采用平板式電極、反應(yīng)離子刻蝕(RIE)電極及等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積 (PEVCD)電極模塊化設(shè)計(jì)理念,方便整體系統(tǒng)的組裝及配置。
BM8-II反應(yīng)離子刻蝕(RIE)/沉積(PEVCD)等離子處理系統(tǒng)帶給用戶(hù)方便操作,提供多種等離子處理工藝、方便維護(hù)及性?xún)r(jià)比高的反應(yīng)離子刻蝕(RIE)/沉積等離子處理系統(tǒng),比業(yè)內(nèi)其它反應(yīng)離子刻蝕(RIE)/沉積(PEVCD)等離子處理系統(tǒng)更具競(jìng)爭(zhēng)力。
BM8-II反應(yīng)離子刻蝕(RIE)/沉積(PEVCD)等離子處理系統(tǒng)-主要性能簡(jiǎn)介
等離子工藝處理的研發(fā)需要多功能且可靠的等離子處理系統(tǒng)。為了滿(mǎn)足等離子研究日新月異的要求,用戶(hù)選購(gòu)的系統(tǒng)設(shè)備滿(mǎn)足最大范圍的等離子工藝參數(shù)需要,工藝驗(yàn)證需要極其高的可重復(fù)性,必須方便改造用于新的等離子工藝需要。我們相信BM8-II反應(yīng)離子刻蝕(RIE)/沉積(PEVCD)等離子處理系統(tǒng)系列干法工藝等離子系統(tǒng)滿(mǎn)足這些非常苛刻的要求。. BM8-II反應(yīng)離子刻蝕(RIE)/沉積(PEVCD)等離子處理系統(tǒng)是一款用于研究,工藝開(kāi)發(fā)及其小批量生產(chǎn)的等離子系統(tǒng)工具,用于最大八英寸基片的精確等離子刻蝕及沉積。BM8-II反應(yīng)離子刻蝕(RIE)/沉積(PEVCD)等離子處理系統(tǒng)可以在多片或單片處理模式下操作。
在設(shè)計(jì)BM8-II反應(yīng)離子刻蝕(RIE)/沉積(PEVCD)等離子處理系統(tǒng)之初,主導(dǎo)指示就是創(chuàng)造一款融合高質(zhì)量、可靠、重復(fù)性及其用于生產(chǎn)系統(tǒng)的工藝控制能力為一體的等離子系統(tǒng);同時(shí)極大的降低主機(jī)成本、維護(hù)成本及占地面積小等要求。
BM8-II反應(yīng)離子刻蝕(RIE)/沉積(PEVCD)等離子處理系統(tǒng)具有獨(dú)特的機(jī)體結(jié)構(gòu)和電極設(shè)計(jì),方便安裝在層流模塊中或是超凈間。BM8-II反應(yīng)離子刻蝕(RIE)/沉積(PEVCD)等離子處理系統(tǒng)的建造采用高質(zhì)量認(rèn)可的部件、模塊化裝配、多功能真空艙體及其電極設(shè)計(jì)、結(jié)構(gòu)緊湊、自動(dòng)化及業(yè)內(nèi)認(rèn)可工藝程序使得BM8-II反應(yīng)離子刻蝕(RIE)/沉積(PEVCD)等離子處理系統(tǒng)成為工藝工程師首選干法等離子處理設(shè)備。
BM8-II反應(yīng)離子刻蝕(RIE)/沉積(PEVCD)等離子處理系統(tǒng)-主要性能介紹
· 一體式真空艙體構(gòu)造
· 原位電極間距設(shè)計(jì)(PEVCD版)
· 可更換工藝氣體噴頭
· 業(yè)內(nèi)認(rèn)可的工藝程序
· 高質(zhì)量業(yè)內(nèi)認(rèn)可的主要部件
· 終點(diǎn)探測(cè)監(jiān)測(cè)(Endpoint detection選配)
· 多種電極配置
· 自動(dòng)射頻(RF)匹配器
· 下游壓力控制(Downstream pressure control選配)
· 電腦控制,基于Windows編程
· 多款真空泵浦選配:機(jī)械泵、機(jī)械泵/風(fēng)機(jī),渦輪增壓泵浦
· 單真空艙及雙真空艙結(jié)構(gòu)
BM8-II反應(yīng)離子刻蝕(RIE)/沉積(PEVCD)等離子處理系統(tǒng)-應(yīng)用
基于系統(tǒng)建造的高質(zhì)量處理模塊,BM8-II反應(yīng)離子刻蝕(RIE)/沉積(PEVCD)等離子處理系統(tǒng)滿(mǎn)足廣泛的等離子處理工藝條件,無(wú)論是復(fù)雜的亞微米級(jí)反應(yīng)離子刻蝕 (RIE)還是高質(zhì)等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積(PEVCD)薄膜的沉積。以下是我們,BM8-II反應(yīng)離子刻蝕(RIE)/沉積(PEVCD)等離子處理系統(tǒng)的典型工藝處理應(yīng)用,基與眾多客戶(hù)群的緊密協(xié)作,我們開(kāi)發(fā)出業(yè)內(nèi)認(rèn)可的工藝程序,保證系統(tǒng)滿(mǎn)足用戶(hù)所需。用于生產(chǎn)制造的系統(tǒng)設(shè)備均采用最高質(zhì)量的部件,保證,BM8-II反應(yīng)離子刻蝕(RIE)/沉積(PEVCD)等離子處理系統(tǒng)提供最大可能的正常運(yùn)行時(shí)間、 可靠性、重復(fù)性及耐用性。
· 故障分析應(yīng)用(Failure analysis)
· 材料改性(Material modification)
· 粘合促進(jìn)等離子descum
· 表面處理(Surface treatment)
· 各向異性各項(xiàng)同性及刻蝕(Anisotropic and isotropic etching)
· 金屬刻蝕(Metal etching)
· Si02(二氧化硅), Si3N4 (氧化硅)及 SiOxNy(氮氧化矽)薄膜沉積
· II-V 刻蝕應(yīng)用(III-V etching)
· 溝槽刻蝕(Trench etching)
· 鈍化層刻蝕(Passivation etching)
· 聚酰亞胺刻蝕(Polyimide etching )
· 亞納米級(jí)刻蝕(Submicron etching)
BM8-II反應(yīng)離子刻蝕(RIE)/沉積(PEVCD)等離子處理系統(tǒng)規(guī)格
BM8-II反應(yīng)離子刻蝕(RIE)/沉積(PEVCD)等離子處理系統(tǒng)的廣泛使用得益于其高性?xún)r(jià)比,多功能設(shè)計(jì)模塊,提供其他同類(lèi)反應(yīng)離子刻蝕(RIE)/沉積(PEVCD)等離子處理系統(tǒng)沒(méi)有的工藝優(yōu)勢(shì)。這些包括層流安裝占地面積小,多款電極配置,及其最大可滿(mǎn)足直徑8英寸(203毫米)基片處理等。
BM8-II反應(yīng)離子刻蝕(RIE)/沉積(PEVCD)等離子處理系統(tǒng)基本模塊
BM8-II反應(yīng)離子刻蝕(RIE)/沉積(PEVCD)等離子處理系統(tǒng)基本部件包括一款基于Windows的PC控制器及其菜單存儲(chǔ)、質(zhì)量流量控制的兩路通道控制(最大可擴(kuò)展至六通道)、溫度補(bǔ)償式電容壓力計(jì)用于測(cè)量工藝真空度、100毫米真空通道用于最大工藝氣體電導(dǎo)、KF或ISO標(biāo)準(zhǔn)管件便于維護(hù);及其它工藝及服務(wù)特性。工藝氣體導(dǎo)管未不銹鋼操作,配備VCE連接件。
BM8-II反應(yīng)離子刻蝕(RIE)/沉積(PEVCD)等離子處理系統(tǒng)-真空處理艙
BM8-II反應(yīng)離子刻蝕(RIE)/沉積(PEVCD)等離子處理系統(tǒng)的真空處理艙采用整塊鋁合金建造成一體式設(shè)計(jì)。反應(yīng)離子刻蝕(RIE)、等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積(PEVCD)及平板電極系統(tǒng)均采用同樣的真空處理艙設(shè)計(jì)。真空處理艙上部包括一個(gè)電極,并且具有原位電極可調(diào)間距;真空艙下部包括基片電極,真空泵浦接口及氣體必要的真空閥及其真空監(jiān)控設(shè)備。自動(dòng)升降臺(tái)抬舉真空艙上部便于接近底部電極。
BM8-II反應(yīng)離子刻蝕(RIE)/沉積(PEVCD)等離子處理系統(tǒng)-電極配置
反應(yīng)離子刻蝕(RIE)系列電極特別為達(dá)到低真空范圍的最佳等離子性能設(shè)計(jì)。上部的不銹鋼電極包括噴頭式工藝氣體供應(yīng)系統(tǒng)。不銹鋼材質(zhì)底部電極通過(guò)可選配冷卻循環(huán)槽來(lái)控制溫度。反應(yīng)離子刻蝕(RIE)陽(yáng)極采用暗區(qū)屏障設(shè)計(jì),使等離子在兩塊電極之間產(chǎn)生。等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積((PECVD )電極采用類(lèi)似的設(shè)計(jì),但是鋁制底部基片電極最大可耐400℃高溫,而上部電極(通電電極)是采用水冷卻。鋁制電極具有氣體感應(yīng)端口,便于沉積工藝后的快速冷卻。對(duì)于(等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積(PECVD )應(yīng)用,上部電極的間距可以在25.40至89毫米之間調(diào)節(jié)。
BM8-II反應(yīng)離子刻蝕(RIE)/沉積(PEVCD)等離子處理系統(tǒng)-等離子電源
BM8-II反應(yīng)離子刻蝕(RIE)/沉積(PEVCD)等離子處理系統(tǒng)的電源可匹配廣泛的功率及其等離子電源頻率。所有的電源采用固態(tài)、風(fēng)冷式。電源功率從300至1250瓦特均有,射頻頻率從40KHz(中頻)至2.45GHz(微波);系統(tǒng)標(biāo)配為13.56MHz,600瓦特射頻電源?蛇x配自動(dòng)或手動(dòng)匹配器。
BM8-II反應(yīng)離子刻蝕(RIE)/沉積(PEVCD)等離子處理系統(tǒng)-工藝處理真空泵浦
根據(jù)用戶(hù)的工藝需要,BM8-II反應(yīng)離子刻蝕(RIE)/沉積(PEVCD)等離子處理系統(tǒng)配備機(jī)械泵、機(jī)械泵及渦輪分子泵,或是帶魯氏鼓風(fēng)機(jī)的機(jī)械泵。也可根據(jù)所需真空處理級(jí)別配備不同尺寸大小的真空泵浦。
BM8-II反應(yīng)離子刻蝕(RIE)/沉積(PEVCD)等離子處理系統(tǒng)-控制器
控制器采用電腦控制整個(gè)系統(tǒng);Windows的控制軟件采用多屏幕顯示系統(tǒng)設(shè)備控制、數(shù)據(jù)記錄、稱(chēng)呼設(shè)定及存儲(chǔ),系統(tǒng)連鎖應(yīng)需配備。
BM8-II反應(yīng)離子刻蝕(RIE)/沉積(PEVCD)等離子處理系統(tǒng)-選配
為了增強(qiáng)BM8-II反應(yīng)離子刻蝕(RIE)/沉積(PEVCD)等離子處理系統(tǒng)的工藝處理能力,BM8-II反應(yīng)離子刻蝕(RIE)/沉積(PEVCD)等離子處理系統(tǒng)提供廣泛的工藝處理選項(xiàng),包括終點(diǎn)檢測(cè)、水冷器(用于冷卻電極)、油霧分離器及吹掃系統(tǒng)、下周壓力控制、硬質(zhì)陽(yáng)極氧化真空艙。工藝廢氣處理系統(tǒng)也可提供。應(yīng)離子刻蝕(RIE)/等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積(PEVCD)任意結(jié)合的雙真空處理艙可以配置。反應(yīng)離子刻蝕(RIE)/等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積(PEVCD)組合配置具有明顯的多功能性,其優(yōu)勢(shì)在于避免不同沉積工藝的交叉污染。
BM8-II反應(yīng)離子刻蝕(RIE)/沉積(PEVCD)等離子處理系統(tǒng)尺寸
單真空處理艙 | Dual雙真空處理艙 | |
寬: | 91厘米 | 104厘米 |
深: | 81厘米 | 114厘米 |
機(jī)柜高度: | 91厘米 | 91厘米 |
整機(jī)高度: | 129厘米 | 129厘米 |
BM8-II反應(yīng)離子刻蝕(RIE)/沉積(PEVCD)等離子處理系統(tǒng)重量
70~120公斤. (取決于具體系統(tǒng)配置).
BM8-II反應(yīng)離子刻蝕(RIE)/沉積(PEVCD)等離子處理系統(tǒng)安裝條件
等離子系統(tǒng)主機(jī): | |
220VAC/1/50Hz, 7A | |
真空泵浦系統(tǒng): | |
220VAC/1/50Hz, 5A | |
電極冷卻水源: | 20℃ ±2℃ |
真空閥驅(qū)動(dòng)氣源: | 0.88MPa |
氮?dú)?/span>: | 0.1~0.14MPa (用于真空處理艙吹掃)) |
氣源: | 等離子處理工藝氣體, VCR 管件 |
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